[实用新型]一种半导体设备L型真空阀门有效

专利信息
申请号: 202120817433.1 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN215059989U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 胡开鹏;张魁榜;齐英;陈林 申请(专利权)人: 四川九天真空科技股份有限公司;川北真空科技(北京)有限公司
主分类号: F16K51/02 分类号: F16K51/02;F16K27/00;F16K31/122;F16K35/02;F15B15/14;F15B15/20;F15B15/24;F15B15/26
代理公司: 成都嘉企源知识产权代理有限公司 51246 代理人: 胡建超
地址: 637200 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体设备 真空 阀门
【权利要求书】:

1.一种半导体设备L型真空阀门,包括阀板(1)、运动件(9)和运动导轨件(11),其特征在于:所述阀板(1)与阀杆(2)连接,阀杆(2)穿过安装板(3),安装板(3)中间设置有通孔,通孔用来安装阀杆(2),阀杆(2)与运动件(9)连接,阀杆(2)底部与底板(7)之间安装有弹簧(13);

所述安装板(3)内部设置有两条独立完整的气路,安装板(3)的下部安装着第一气缸(4)和第二气缸(10),第一气缸(4)上设置有第一通气口(5)和第二通气口(6),两个气缸的气路通过安装板内部的两条气路连接贯通,两个气缸的内侧都设置有机械限位气缸(4.1),机械限位气缸(4.1)设置有第一活塞端(4.11)和第二活塞端(4.12);

所述第一气缸(4)和第二气缸(10)的活塞杆(4.2)连接着底板(7),底板(7)与两个运动导轨件(11)连接,运动导轨件(11)侧面设置有第一导轨槽(11.1),第一导轨槽(11.1)与机械限位气缸(4.1)配合实现限位,运动导轨件(11)另一面设置有第一弧形槽(11.21)和第二弧形槽(11.22),运动件(9)两边侧面都设置有第一固定件(9.1)和第二固定件(9.2),两个固定件与两个弧形槽配合。

2.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述底板(7)的中部设置有凹槽(8),阀杆(2)的底部设置有凸台(12),凸台(12)与凹槽(8)位置对应,凸台(12)与凹槽(8)之间安装有弹簧(13)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述阀板(1)和安装板(3)上设置有密封槽,密封槽安装有密封圈,密封槽旁设置有放气槽。

4.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述运动件(9)的顶端设置有滚轮,滚轮的个数有两个,嵌入式安装。

5.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述第一通气口(5)和第二通气口(6)通过气管连接着进气源,所述第一气缸(4)和第二气缸(10)的内部都设置有两条独立完整的气路。

6.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述机械限位气缸(4.1)为单作用弹簧复位气缸,机械限位气缸(4.1)的通气口连接着第一气缸(4)和第二气缸(10)的内部气路,机械限位气缸(4.1)的出气口设置在出气孔中。

7.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述第一导轨槽(11.1)上设置有关闭限位孔(11.11)和打开限位孔(11.12),两个限位孔与机械限位气缸(4.1)的两个活塞杆端配合实现机械限位。

8.根据权利要求1所述的一种半导体设备L型真空阀门,其特征在于:所述第一固定件(9.1)与第一弧形槽(11.21)配合,第二固定件(9.2)与第二弧形槽(11.22)配合,实现运动件(9)的限位和偏转。

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