[实用新型]一种半导体设备L型真空阀门有效

专利信息
申请号: 202120817433.1 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN215059989U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 胡开鹏;张魁榜;齐英;陈林 申请(专利权)人: 四川九天真空科技股份有限公司;川北真空科技(北京)有限公司
主分类号: F16K51/02 分类号: F16K51/02;F16K27/00;F16K31/122;F16K35/02;F15B15/14;F15B15/20;F15B15/24;F15B15/26
代理公司: 成都嘉企源知识产权代理有限公司 51246 代理人: 胡建超
地址: 637200 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体设备 真空 阀门
【说明书】:

实用新型公开了一种半导体设备L型真空阀门,包括阀板、运动件和运动导轨件,阀板与阀杆连接,阀杆与运动件连接;安装板内部设置有两条独立完整的气路,安装板的下部安装着第一气缸和第二气缸,两个气缸的气路通过安装板内部的两条气路连接贯通,气缸的内侧设置有机械限位气缸,第一气缸和第二气缸的活塞杆连接着底板,底板连接着两个运动导轨件,运动导轨件侧面设置有第一导轨槽,第一导轨槽与机械限位气缸配合进行限位,运动导轨件另一面设置有两个弧线槽,弧线槽与运动件上的固定件配合运动。本实用新型整体结构简单,部件损耗低,维护成本低,密封的稳定性和持久性高,操作安全。

技术领域

本实用新型涉及到半导体制造技术领域,具体涉及一种半导体设备L型真空阀门。

背景技术

在半导体制造工艺中,通常将真空腔室(如加载锁定、传送装置、处理腔室)排置为群集式、直列式或者群集式、直列式的组合,以处理晶圆。这些系统可以采用单一基板或者批式基板的方式来处理晶圆。在处理工程中,晶圆会在腔室之间传送,比如从传送室将晶圆传递到工艺室,所述腔室内必须维持或者建立真空。为了允许晶圆进入腔室内部,并能够进行真空操作,通常在腔室与腔室之间的壁上设立阀门。

随着半导体技术的飞速发展和器件关键尺寸的缩小,半导体晶圆对于污染越发敏感,污染物会造成晶圆的缺陷,降低良品率,增加制造成本。因此,半导体的制造过程中,对于生产设备的要求也越来越高,现有晶圆制造设备的真空阀门结构较为复杂,易于损耗,维护成本过高。且真空阀门的密封条会与真空设备摩擦,产生污染,易于损耗。设备发生故障时,对晶圆保护不足。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种半导体设备L型真空阀门,用以解决易损耗,密封效果差,维护成本高的问题。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:包括阀板、运动件和运动导轨件,所述阀板与阀杆连接,安装板用来安装阀门,安装板中间设置有通孔,通孔用来安装阀杆,阀杆与运动件连接,底板的中部设置有凹槽,阀杆的底部设置有凸台,凸台与凹槽位置对应,凸台与凹槽之间安装有弹簧;

所述安装板内部设置有两条独立完整的气路,安装板的下部安装着第一气缸和第二气缸,第一气缸上设置有第一通气口和第二通气口,两个气缸的气路通过安装板内部的两条气路连接贯通,两个气缸的内侧都设置有机械限位气缸,机械限位气缸设置有第一活塞端和第二活塞端;

所述第一气缸和第二气缸的活塞杆连接着底板,底板与两个运动导轨件固定连接,运动导轨件侧面设置有第一导轨槽,第一导轨槽与机械限位气缸配合实现限位,运动导轨件另一面设置有第一弧形槽和第二弧形槽,运动件两边侧面都设置有第一固定件和第二固定件,两个固定件与两个弧形槽配合。

优选的,底板的中部设置有凹槽,阀杆的底部设置有凸台,凸台与凹槽位置对应,凸台与凹槽之间安装有弹簧。

优选的,所述阀板和安装板上设置有密封槽,密封槽安装有密封圈,密封槽旁设置有放气槽。

优选的,所述运动件的顶端设置有滚轮,滚轮的个数有两个,嵌入式安装,便于运动件到位后进行偏转运动。

优选的,所述第一通气口和第二通气口通过气管连接着进气源,所述第一气缸和第二气缸的内部都设置有两条独立完整的气路。

优选的,所述机械限位气缸为单作用弹簧复位气缸,机械限位气缸的通气口连接着第一气缸和第二气缸的内部气路,机械限位气缸的出气口设置在出气孔中。

优选的,所述第一导轨槽上设置有关闭限位孔和打开限位孔,两个限位孔与机械限位气缸的两个活塞杆端配合实现机械限位。

优选的,所述第一固定件与第一弧形槽配合,第二固定件与第二弧形槽配合,实现限位和运动件的偏转。

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