[实用新型]一种多晶硅生产用清洗机

说明书

本实用新型公开了一种多晶硅生产用清洗机，解决了多晶硅切片完成后脱胶和清洗效率低的问题，其技术方案要点是：还包括传送装置，所述传送装置设置有固定架，所述固定架底部设置有托架，所述托架与固定架之间设置有升降气缸，升降气缸可控制托架上下移动，所述的托架侧面设置有驱动气缸，所述驱动气缸可控制托架水平移动，所述的脱胶槽连接有导液泵，且所述脱胶槽设置内有若干冲洗头，所述冲洗头与导液泵连通，所述冲洗头内部设置有导流板，所述导流板呈螺旋状分布于冲洗头内壁。达到了高效脱胶和清洗的目的。

技术领域

本实用新型属于清洗设备技术领域，特指一种多晶硅生产用清洗机。

背景技术

在单晶硅片加工过程中，经过磨圆完成后的硅棒需要进行切片加工，在进行切片加工前，需要将硅棒胶粘在工件板上，之后进行切片加工，切片完成后形成单晶硅片仍胶粘于工件板，需要用热水将硅片与工件板分离，之后对单晶硅片上残留的胶体和切片产生废屑进行清理，然而，现有的除胶和除屑分别由除胶剂浸泡和超声波清洗两种方式分别完成，其中，除胶剂浸泡时间较长，且在除胶完成后，需要人工将硅片放入超声波清洗槽进行除屑，整个过程消耗时间较长，影响生产效率。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种高效清洗的多晶硅生产用清洗机。

本实用新型的目的是这样实现的：一种多晶硅生产用清洗机，包括脱胶槽和超声波清洗槽，还包括传送装置，所述传送装置设置有固定架，所述固定架底部设置有托架，所述托架与固定架之间设置有升降气缸，升降气缸可控制托架上下移动，所述的托架侧面设置有驱动气缸，所述驱动气缸可控制托架水平移动，所述的脱胶槽连接有导液泵，且所述脱胶槽设置内有若干冲洗头，所述冲洗头与导液泵连通，所述冲洗头内部设置有导流板，所述导流板呈螺旋状分布于冲洗头内壁。

本实用新型进一步优化为：所述导液泵位于脱胶槽外部，所述冲洗头一端延伸至脱胶槽外，所述导液泵与冲洗头之间通过导液管连通。

本实用新型进一步优化为：所述的脱胶槽外设置有隔离仓，所述导液泵和导液管安装于隔离仓内。

本实用新型进一步优化为：所述固定架底面设置有滑道，所述滑道内镶嵌有滑座，所述升降气缸安装于滑座底部，所述驱动气缸与滑座侧面连接。

本实用新型进一步优化为：所述脱胶槽和超声波清洗槽底部设置有底座，所述固定架与底座固定连接。

本实用新型进一步优化为：所述的反冲头均匀分布于脱胶槽一侧顶部。

本实用新型相比现有技术突出且有益的技术效果是：本实用新型通过在脱胶槽内增加冲洗头，可在浸泡过程中对硅片进行冲刷，加速脱胶效率，同时，冲洗头内螺旋分布的导流板可作用于导液泵导出的浸泡液，使浸泡液导出后形成湍流，增加冲洗效果；

同时，通过在脱胶槽与超声波清洗槽之间增加传送装置，可将硅片放置于托架上，当除胶完成后，传送装置可直接将硅片全部移动至超声波清洗槽内，增加传送效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的脱胶槽结构示意图；

图3是本实用新型的冲洗头结构示意图。

图中：1、脱胶槽；2、超声波清洗槽；3、固定架；4、托架；5、升降气缸；6、驱动气缸；7、导液泵；8、冲洗头；9、导流板；10、导液管；11、滑道；12、滑座；13、底座；14、隔离仓。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好的理解本实用新型中的技术方案，下面结合本实用新型实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。