[实用新型]一种高导电性的半导体引线框架有效
申请号: | 202120879713.5 | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN215418162U | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 夏玉龙 | 申请(专利权)人: | 淮安维嘉益集成科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495 |
代理公司: | 苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙) 32623 | 代理人: | 柯兴宇 |
地址: | 223000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 导电性 半导体 引线 框架 | ||
1.一种高导电性的半导体引线框架,包括外框(100),所述外框(100)上设有封装单元(200),所述封装单元(200)包括外引脚(201)、内引脚(202)和芯片区(203),所述芯片区(203)用于容纳芯片,所述外框(100)远离所述封装单元(200)的一侧设有与所述芯片区(203)配合的散热片(204),其特征在于:所述芯片区(203)包括容纳槽(210),所述容纳槽(210)底部所在的平面低于所述外框(100)设有所述封装单元(200)一侧所在的平面,所述容纳槽(210)底部设有限位凸缘(211)和凸块(212),所述容纳槽(210)底部远离所述限位凸缘(211)和所述凸块(212)的一侧设有与所述限位凸缘(211)和凸块(212)配合的凹槽,所述凹槽使得所述限位凸缘(211)和所述凸块(212)内部为空腔结构,所述限位凸缘(211)沿所述容纳槽(210)的槽壁设置,所述凸块(212)设置在所述限位凸缘(211)形成的区域内,所述限位凸缘(211)与所述凸块(212)配合形成凹陷部(213)。
2.根据权利要求1所述的高导电性的半导体引线框架,其特征在于:所述散热片(204)包括与所述限位凸缘(211)配合的第一凸条(241)以及与所述凸块(212)配合的第二凸条(242)。
3.根据权利要求1所述的高导电性的半导体引线框架,其特征在于:所述限位凸缘(211)及凸块(212)与所述容纳槽(210)一体设置。
4.根据权利要求1所述的高导电性的半导体引线框架,其特征在于:所述外框(100)上设有定位孔(101)。
5.根据权利要求1所述的高导电性的半导体引线框架,其特征在于:所述外框(100)由铜制成。
6.根据权利要求1或2所述的高导电性的半导体引线框架,其特征在于:所述散热片(204)由铜制成。
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