[实用新型]一种支撑装置及CVD反应器有效
| 申请号： | 202120891234.5 | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN215365975U | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 朱建中;于伟华;鞠德胜;万荣群 | 申请（专利权）人： | 宜兴市海飞陵电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;B25B11/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 李莹 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市宜兴经济*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 支撑 装置 cvd 反应器 | ||
1.一种支撑装置，其特征在于，包括多个支撑柱，多个圆形骨架，第一支撑架以及第二支撑架；多个支撑柱呈圆形布置；多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上；第一支撑架设置在圆形骨架内，用于支撑产品；第二支撑架设置在支撑柱上，用于固定各支撑柱。
2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，第一支撑架包括多个第一支撑杆，多个第一支撑杆平行设置，第一支撑杆的两端分别与圆形骨架连接。
3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，第一支撑杆的两端分别通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与圆形骨架连接。
4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，第二支撑架包括多个第二支撑杆，多个第二支撑杆交叉设置，第二支撑杆的两端分别与支撑柱连接。
5.根据权利要求4所述的支撑装置，其特征在于，第二支撑杆的两端分别通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与支撑柱连接。
6.根据权利要求5所述的支撑装置，其特征在于，圆形骨架通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与支撑柱连接。
7.根据权利要求6所述的支撑装置，其特征在于，还包括支撑锥，支撑锥设置在第一支撑架上。
8.根据权利要求7所述的支撑装置，其特征在于，第一支撑杆上设置有安装孔，支撑锥固定在安装孔内。
9.根据权利要求8所述的支撑装置，其特征在于，支撑锥与安装孔螺纹连接，或者支撑锥与安装孔插接。
10.一种CVD反应器，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的支撑装置。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
