[实用新型]一种支撑装置及CVD反应器有效
申请号: | 202120891234.5 | 申请日: | 2021-04-25 |
公开(公告)号: | CN215365975U | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 朱建中;于伟华;鞠德胜;万荣群 | 申请(专利权)人: | 宜兴市海飞陵电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25B11/00 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 李莹 |
地址: | 214000 江苏省无锡市宜兴经济*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 支撑 装置 cvd 反应器 | ||
本实用新型实施例公开了一种支撑装置及CVD反应器,涉及产品放置架技术领域。所述支撑装置包括多个支撑柱,多个圆形骨架,第一支撑架以及第二支撑架;多个支撑柱呈圆形布置;多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上;第一支撑架设置在圆形骨架内,用于支撑产品;第二支撑架设置在支撑柱上,用于固定各支撑柱。本实用新型实施例提出的支撑装置中,多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上,每个圆形骨架内均设有用于支撑产品的第一支撑架,从而极大提高了空间利用率,使得支撑装置能够放置更多产品。进一步地,圆形骨架稳定性好,并且,通过第二支撑架能够更好固定支撑柱,使得支撑更加稳定,支撑性更好,有助于上下层空间的气流均匀分布。
技术领域
本实用新型涉及产品放置架技术领域,尤其涉及一种支撑装置及CVD反应器。
背景技术
CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应。CVD反应器是指用于进行CVD的反应器。CVD反应器中通常设有放置产品的置物架,现有置物架存在如下缺点:
1、可存放的产品数量少。
2、支撑性及稳定性差。
3、干扰气场平均分布。
4、上下层产品存在气场遮挡等。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的技术问题是现有CVD反应器的置物架可存放的产品数量少及支撑性及稳定性差的问题。
为了解决上述问题,本实用新型实施例提出如下技术方案:
第一方面,本实用新型实施例提出一种支撑装置,所述支撑装置包括多个支撑柱,多个圆形骨架,第一支撑架以及第二支撑架;多个支撑柱呈圆形布置;多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上;第一支撑架设置在圆形骨架内,用于支撑产品;第二支撑架设置在支撑柱上,用于固定各支撑柱。
其进一步的技术方案为,所述第一支撑架包括多个第一支撑杆,多个第一支撑杆平行设置,第一支撑杆的两端分别与圆形骨架连接。
其进一步的技术方案为,第一支撑杆的两端分别通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与圆形骨架连接。
其进一步的技术方案为,所述第二支撑架包括多个第二支撑杆,多个第二支撑杆交叉设置,第二支撑杆的两端分别与支撑柱连接。
其进一步的技术方案为,第二支撑杆的两端分别通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与支撑柱连接。
其进一步的技术方案为,圆形骨架通过石墨铆钉或者碳碳铆钉与支撑柱连接。
其进一步的技术方案为,还包括支撑锥,支撑锥设置在第一支撑架上。
其进一步的技术方案为,第一支撑杆上设置有安装孔,支撑锥固定在安装孔内。
其进一步的技术方案为,支撑锥与安装孔螺纹连接,或者支撑锥与安装孔插接。
第二方面,本实用新型实施例提出一种CVD反应器,所述CVD反应器包括如第一方面所述的支撑装置。
与现有技术相比,本实用新型实施例所能达到的技术效果包括:
本实用新型实施例提出的支撑装置中,多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上,每个圆形骨架内均设有用于支撑产品的第一支撑架,从而极大提高了空间利用率,使得支撑装置能够放置更多产品。进一步地,圆形骨架稳定性好,并且,通过第二支撑架能够更好固定支撑柱,使得支撑更加稳定,支撑性更好,此外,也有助于上下层空间的气流均匀分布。
附图说明
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的