[实用新型]一种SMD电容清洗加工放置盘有效

专利信息
申请号: 202120930965.6 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN214919045U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 刘世军;许建锋 申请(专利权)人: 四川特锐祥科技股份有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 smd 电容 清洗 加工 放置
【权利要求书】:

1.一种SMD电容清洗加工放置盘,包括盘体(2),所述盘体(2)的表面开设有多个通孔(4),每个所述通孔(4)相互平行,且之间的距离相等,其特征在于:所述盘体(2)的表面相对于每个所述通孔(4)的一侧均设置有限位机构,所述限位机构与通孔(4)呈平形状,每个所述限位机构由多个等距离设置的限位凸起(3)以及盘体(2)底端内侧的连接板(8)组成,所述盘体(2)的表面相对于每个所述限位凸起(3)的底端处均开设有滑槽,组成每个所述限位机构的限位凸起(3)均贯穿滑槽与连接板(8)固定,每两个所述连接板(8)之间连接有固定杆(9),所述限位机构最外侧的限位凸起(3)顶端处开设有螺纹槽(7),所述螺纹槽(7)的外部连接有螺帽(6),所述螺帽(6)的底端与盘体(2)的表面相贴合。

2.根据权利要求1所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述盘体(2)的两侧底端开设有T型槽(11),所述T型槽(11)的内侧设置有磁块(10),所述盘体(2)为金属材质构件。

3.根据权利要求2所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述盘体(2)的表面相对于每个通孔(4)的一侧的中点处均开设有排水孔(1),所述排水孔(1)的直径为盘体(2)宽度的十分之一。

4.根据权利要求3所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述盘体(2)的底端内侧等距离设置有多个支撑凸起(5),所述支撑凸起(5)的横截面为长方体结构。

5.根据权利要求3所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述通孔(4)的横截面为长方体结构,且通孔(4)的长度为盘体(2)宽度的四分之三。

6.根据权利要求1所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述限位凸起(3)的顶端与盘体(2)的顶端表面之间存在高度差,且高度差为一厘米。

7.根据权利要求1所述的一种SMD电容清洗加工放置盘,其特征在于:所述螺帽(6)的外径为限位凸起(3)外径的一点二倍,且螺帽(6)的高度为一点五厘米。

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