[实用新型]孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置有效

专利信息
申请号: 202120931950.1 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN216337555U 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 张喆;任世龙;宋璐 申请(专利权)人: 成都齐碳科技有限公司
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00;C12M1/34
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 娜拉
地址: 610093 四川省成都市高新区*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 结构 芯片 装置 纳米 孔测序
【说明书】:

本申请涉及孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置。孔阵列层结构,用于和衬底形成成膜空间,成膜空间用于形成膜层。孔阵列层结构包括:阵列排布的多个孔单元,孔单元贯穿孔阵列层结构,孔单元具有轴向连通的第一容纳腔和第二容纳腔,第一容纳腔被配置为和衬底连接,至少一个第一容纳腔与其它第一容纳腔连通。本申请提供的孔阵列层结构能够实现第一非极性介质在不同第一容纳腔之间的串联互补,以及均匀性分布,可以保证预涂的均一性,为成膜提供较佳的成膜基础;并且在成膜阶段可以保证膜层的稳定性和串联互补。

技术领域

本申请涉及生物检测技术领域,特别是涉及孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置。

背景技术

纳米孔检测技术,具有高通量、高集成、平行化、多样化和自动化等优点,在蛋白质检测、基因测序和纳米颗粒的表征等领域具有广泛的应用。例如当进行基因测序时,基因测序装置的薄膜中设置有纳米孔,单链脱氧核糖核酸(DeoxyriboNucleic Acid,DNA)分子穿过纳米孔时,由于不同碱基的形状大小有差异,与纳米孔内检测分子发生特异性反应从而引起电阻变化。纳米孔的两侧具有恒定电压,可以检测到不同碱基经过纳米孔中电流的变化,从而反映出通过纳米孔的DNA分子的碱基排列情况。

基因测序装置的薄膜的稳定性对检测的准确性至关重要,但是目前薄膜的稳定性不佳,从而导致检测的准确性较差。

实用新型内容

本申请提供孔阵列层结构、芯片装置和纳米孔测序装置,旨在解决薄膜稳定性不佳的问题,可以提高成膜的稳定性。

第一方面,本申请实施例提供了一种孔阵列层结构,用于和衬底形成成膜空间,成膜空间用于形成膜层。孔阵列层结构包括:阵列排布的多个孔单元,孔单元贯穿孔阵列层结构,孔单元具有轴向连通的第一容纳腔和第二容纳腔,第一容纳腔被配置为和衬底连接,至少一个第一容纳腔与其它第一容纳腔连通。

根据本申请第一方面的实施例,至少一个第二容纳腔与其它第二容纳腔连通。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,孔阵列层结构包括第一限定层和第二限定层,第一容纳腔设置于第一限定层内并贯通第一限定层,第二容纳腔设置于第二限定层内并贯通第二限定层。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二限定层包括阵列排布的多个第二子单元,第二容纳腔设置于第二子单元内并贯通第二子单元。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二限定层包括阵列排布的多个第三子单元,第三子单元包括第三子容纳腔,第二子单元位于第三子容纳腔内,第二子单元和第三子单元之间具有间隙。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二子单元的外侧开设有多个第一凹槽。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第一限定层包括至少一个第一通道,第一通道将每相邻的至少两个第一容纳腔连通。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二限定层包括至少一个第二通道,第二通道将每相邻的至少两个第二容纳腔连通。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第一限定层包括至少一个第一连通槽,第一连通槽沿第一容纳腔的径向向外延伸,第一连通槽背离第一容纳腔的一端封闭。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第一限定层包括至少一个第一连通槽,第一连通槽贯通第一限定层。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二限定层包括至少一个第二连通槽,第二连通槽沿第二容纳腔的径向向外延伸,第二连通槽背离第二容纳腔的一端封闭。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第二限定层包括至少一个第二连通槽,第二连通槽贯通第二限定层。

根据本申请第一方面的前述任一实施例,第一限定层包括至少一个第一连通槽,至少一个第一连通槽形成第三容纳腔,第三容纳腔的直径或宽度大于第二容纳腔的直径或宽度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都齐碳科技有限公司,未经成都齐碳科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120931950.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top