[实用新型]镀膜玻璃

权利要求书

1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：

第一电介质层，所述第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；

第二电介质层，所述第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；

第三电介质层，所述第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；

第四电介质层，所述第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及

第五电介质层，所述第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。

2.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层的厚度不小于10nm，且不超过17nm。

3.如权利要求2所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第一电介质层为氮化硅锆铝层，所述第一电介质层的厚度不小于13nm，且不超过15nm。

4.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质层的厚度不小于30nm，且不超过40nm；

和/或，所述第四电介质层的厚度不小于70nm，且不超过83nm。

5.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第二电介质层为氧化硼硅层，所述第二电介质层的厚度不小于33nm，且不超过38nm；

和/或，所述第四电介质层为氧化硼硅层，所述第四电介质层的厚度不小于73nm，且不超过77nm。

6.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第三电介质层的厚度不小于110nm，且不超过136nm。

7.如权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第三电介质层为氮化硅锆铝层，所述第三电介质层的厚度不小于126nm，且不超过134nm。

8.如权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第五电介质层的厚度不小于3nm，且不超过10nm。

9.如权利要求8所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述第五电介质层为氮化硅锆铝层，所述第五电介质层的厚度不小于4nm，且不超过6nm。

10.如权利要求1至9任一项所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的可见光反射率不超过4.7％，所述镀膜玻璃的颜色为中性色，玻面颜色值为-2.1≤a*≤-0.5，-3≤b*≤-0.5。