[实用新型]镀膜玻璃

说明书

本实用新型公开一种镀膜玻璃，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。本实用新型镀膜玻璃对热处理具有良好的抵抗力和机械耐久性。

技术领域

本实用新型涉及功能玻璃领域，特别涉及一种镀膜玻璃。

背景技术

包含防眩涂层的增透膜玻璃是一种在玻璃表面沉积多层材料，使太阳光中的可见光能够增透过、减反射。防眩涂层的增透膜通常由包含干涉性薄层的多层组成，当沉积在透明基板上时，这种涂层的功能是减少其光反射并增加其透光率。因此，如此涂覆的基材将使其透射光/反射光之比增加，从而改善置于其后的物体的可见性。现有的大多数镀膜玻璃都进行了优化，以使法向入射时的光反射最小，造成现有的大部分镀膜玻璃存在机械强度较差的问题，影响镀膜玻璃的进一步热处理和成型工艺。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种镀膜玻璃，旨在改善现有镀膜玻璃机械强度差的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的镀膜玻璃，包括基层和膜层，所述膜层包括自所述基层的表面向外依次层叠而成的五个电介质层，其中，五个所述电介质层依次包括：

第一电介质层，所述第一电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；

第二电介质层，所述第二电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；

第三电介质层，所述第三电介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；

第四电介质层，所述第四电介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；以及

第五电介质层，所述第五电介质层为氮化硅铝层、氧化锆层、氧化锡层或氮化硅锆铝层中的一个或多个。

可选地，所述第一电介质层的厚度不小于10nm，且不超过17nm。

可选地，所述第一电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第一电介质层的厚度不小于13nm，且不超过15nm。

可选地，所述第二电介质层的厚度不小于30nm，且不超过40nm；

和/或，所述第四电介质层的厚度不小于70nm，且不超过83nm。

可选地，所述第二电介质层为氧化硼硅层，所述第二电介质层的厚度不小于33nm，且不超过38nm；

和/或，所述第四电介质层为氧化硼硅层，所述第四电介质层的厚度不小于73nm，且不超过77nm。

可选地，所述第三电介质层的厚度不小于110nm，且不超过136nm。

可选地，所述第三电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第三电介质层的厚度不小于126nm，且不超过134nm。

可选地，所述第五电介质层的厚度不小于3nm，且不超过10nm。

可选地，所述第五电介质层为氮化硅锆铝层，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比为18.25％，所述第五电介质层的厚度不小于4nm，且不超过6nm。