[实用新型]一种离子注入用多功能样品架

说明书

本实用新型公开了一种离子注入用多功能样品架，包括密封盖，所述密封盖中安装有推拉杆，所述推拉杆一侧设置有螺旋测微器，所述推拉杆远离所述螺旋测微器一侧安装有可加工氮化硼陶瓷棒，所述可加工氮化硼陶瓷棒一侧安装有样品台，所述样品台上均匀分布有四个样品区，所述密封盖一侧安装有真空密封O型圈，所述推拉杆上方设置有束流测量线BNC接头。本实用新型所述的一种离子注入用多功能样品架，通过三个样品分段注入的设置，实现了样品在不停机情况下的离子注入；通过监控和样品的统一设置，监控了离子束注入的剂量，增加了离子注入的一致性；通过样品的多位设置，减少了停机更换，节省了资源，提高了实验效率。

技术领域

本实用新型属于离子注入领域，特别是涉及一种离子注入用多功能样品架。

背景技术

离子注入是集成电路半导体工艺流程中非常重要的一项技术。需要将一定能量的离子沉积到基片表面或注入到基片里，涉及两项关键工艺技术参数。一项是载能离子束的能量，这是由离子注入设备决定的；第二项是离子束的注入剂量，与离子束流的强度密切相关。一般接收离子束的装置是法拉第筒，与之相连接的束流积分仪能精确地给出离子束流强度和束流通量。

在大型工业化离子注入机设备中，注入样品都是大尺寸的晶圆片，采用机械扫描、静电扫描或两者结合的混合扫描方式实现离子束的均匀注入，其本身的束流参数监控是独立的。而对于试验化小型注入机装置，结构紧凑化设计和“多快好省”的设计定位是很重要的设计理念。在传统的这类小型装置中，用于测量束流的法拉第筒和装载基片的样品架是分立的，一旦完成一个样品的注入试验，就必须关闭注入靶室的阀门，充入高纯氩气或氮气破坏真空，以完成取样和装新样的过程，这段时间里，离子束流被白白浪费掉。所以为解决上述技术问题，兼顾小型化实验装置的紧凑化设计原则，将法拉第筒和样品架合二为一，起到监控离子束注入剂量和不停机实现三个样品分段注入的操作，节省资源，提高了实验效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种离子注入用多功能样品架，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种离子注入用多功能样品架，包括密封盖，所述密封盖中安装有推拉杆，所述推拉杆一侧设置有螺旋测微器，所述推拉杆远离所述螺旋测微器一侧安装有可加工氮化硼陶瓷棒，所述可加工氮化硼陶瓷棒一侧安装有样品台，所述样品台上均匀分布有四个样品区，所述密封盖一侧安装有真空密封O型圈，所述推拉杆上方设置有束流测量线BNC接头，所述推拉杆下方设置有抑制电极BNC接头，所述推拉杆后方设置有聚四氟乙烯棒，所述聚四氟乙烯棒上面安装有二次电子屏蔽罩，所述二次电子屏蔽罩中间设置有限束孔。

进一步地：所述样品台采用铝合金材料。

保证了所述样品台轻便耐用。

进一步地：所述限束孔为正方形，边长为10mm。

既保证了电子束的顺利通过，又限制了区域。

工作原理：将样品粘贴在所述样品台上后三个所述样品区，离子束通过所述二次电子屏蔽罩中间的所述限束孔射在所述样品台上，通过所述束流测量线BNC接头输出，而后旋拧所述螺旋测微器通过所述推拉杆推动所述样品台移动，使样品依次对准离子束进行离子注入。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过三个样品分段注入的设置，实现了样品在不停机情况下的离子注入；

2、通过监控和样品的统一设置，监控了离子束注入的剂量，增加了离子注入的一致性；

3、通过样品的多位设置，减少了停机更换，节省了资源，提高了实验效率。

附图说明

图1是本实用新型所述一种离子注入用多功能样品架的正视轴侧图；