[实用新型]一种化学机械抛光设备的清洗装置有效

专利信息
申请号: 202121016071.2 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN215142404U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 闫辰奇 申请(专利权)人: 唐山师范学院
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B13/00
代理公司: 北京中仟知识产权代理事务所(普通合伙) 11825 代理人: 田江飞
地址: 063000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 设备 清洗 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种化学机械抛光设备的清洗装置,涉及机械设备及其相关装置技术领域。本实用新型包括上开口框,上开口框的上表面连接有上盖板,上盖板的正上方连接有顶板,顶板的下表面前后两侧对称连接侧竖板,顶板的下表面中部连接有蓄水盒,蓄水盒的下表面一侧中部连通有雾式喷头,雾式喷头的下表面连接有擦洗海绵垫,蓄水盒远离雾式喷头的侧表面中部连通有第二连接管,第二连接管的另一端连通有水泵,水泵的一端连通有第一连接管。本实用新型通过设置侧竖板、雾式喷头和擦洗海绵垫结构,解决了现有的化学机械抛光设备的清洗装置无法防止污渍四处掉落以及直接对化学机械抛光设备进行喷水冲洗的问题。

技术领域

本实用新型属于机械设备及其相关装置技术领域,特别是涉及一种化学机械抛光设备的清洗装置。

背景技术

抛光机是一种电动工具,其中,化学机械抛光设备属于抛光机的范畴,且人们使用化学机械抛光设备对物件进行抛光加工时,化学机械抛光设备的工作台面上会残留废料,为了不影响人们操作化学机械抛光设备对物件进行加工,需要使用者对化学机械抛光设备的工作台面上的废料进行清理,目前,人们使用化学机械抛光设备的清洗装置对废料进行清理,但它在实际使用中仍存在以下弊端:

1、现有的化学机械抛光设备的清洗装置在清理化学机械抛光设备工作台上的污渍时,污渍四处掉落在地,进而导致化学机械抛光设备的周面环境受到破坏,且增加了清洁者的工作量;

2、现有的化学机械抛光设备的清洗装置对化学机械抛光设备直接进行喷水冲洗,进而导致喷出的水渗入或溅入化学机械抛光设备的内部。

因此,现有的化学机械抛光设备的清洗装置,无法满足实际使用中的需求,所以市面上迫切需要能改进的技术,以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种化学机械抛光设备的清洗装置,通过设置侧竖板、雾式喷头和擦洗海绵垫结构,解决了现有的化学机械抛光设备的清洗装置无法防止污渍四处掉落以及直接对化学机械抛光设备进行喷水冲洗的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:

本实用新型为一种化学机械抛光设备的清洗装置,包括上开口框,上开口框的上表面连接有上盖板,且上盖板通过合页和上开口框进行连接,上盖板的正上方连接有顶板,顶板的下表面前后两侧对称连接侧竖板,顶板的下表面中部连接有蓄水盒,蓄水盒的下表面一侧中部连通有雾式喷头,雾式喷头的下表面连接有擦洗海绵垫,蓄水盒远离雾式喷头的侧表面中部连通有第二连接管,第二连接管的另一端连通有水泵,水泵的一端连通有第一连接管,第一连接管的另一端贯穿上盖板延伸至上开口框的内部。

进一步地,顶板的下表面左右两侧对称开设有T型滑槽,侧竖板的上表面左右对称连接有T型滑块,T型滑块沿着T型滑槽滑动,T型滑块的宽度尺寸为侧竖板厚度尺寸的两倍,T型滑块的下表面远离侧竖板的一侧中部螺纹连接有锁紧螺栓,具体地,T滑槽限定了T型滑块的移动轨迹,进而限定了侧竖板的移动轨迹,锁定螺栓用于锁定T型滑块的位置。

进一步地,侧竖板远离雾式喷头的侧表面中部连接有安装板,安装板的下表面中部连接有外螺纹柱,外螺纹柱的圆周面下侧螺纹连接有内外螺纹环,上盖板的上表面远离雾式喷头的一侧中部连接有内螺纹空心轴,内螺纹空心轴的内部下侧连接有轴承,轴承和外螺纹柱的圆周面下部转动连接,内螺纹空心轴和内外螺纹环螺纹连接,轴承的高度尺寸与内外螺纹环的高度尺寸之和大于内螺纹空心轴的内部深度尺寸,具体地,轴承的存在减小了外螺纹柱和内螺纹空心轴之间的摩擦力,有利于外螺纹柱的转动,内螺纹螺纹环对外螺纹柱进行位置锁定,进而防止了外螺纹柱误转动。

进一步地,上开口框的内部中部连接有竖隔板,上开口框的内部且位于竖隔板的一侧为水腔,上开口框的内部且位于竖隔板的另一侧为存放腔,具体地,竖隔板的存在防止了水腔内部的水进入存放腔的内部,水腔用于蓄水,存放腔用于存放物件。

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