[实用新型]一种铸件激光深雕装置

权利要求书

1.一种铸件激光深雕装置，其特征在于，包括输送线、定位机构、自动调焦机构、冷却机构、控制系统和激光深雕机构，所述输送线用于输送成型后的工件，所述激光深雕机构设置在所述输送线的一侧，所述激光深雕机构包括激光发生器和振镜头，所述振镜头控制所述激光发生器产生激光的路径对工件进行加工，所述定位机构包括定位传感器、传感器支架、横向阻挡机构和纵向阻挡机构，所述定位传感器设置在所述传感器支架上并用于检测工件在所述输送线上的位置，所述横向阻挡机构设置在所述输送线的预定位置并用于阻挡工件沿输送线的输送方向运动，所述纵向阻挡机构设置在所述输送线的一侧并用于将工件沿垂直于输送线的输送方向的方向移动至预定位置，所述自动调焦机构包括伺服移动平台和距离传感器，所述距离传感器设置在所振镜头的一旁，所述振镜头和距离传感器均固定在所述伺服移动平台上，所述距离传感器用于检测工件和所述振镜头的相对距离，所述伺服移动平台能够移动并用于保证深雕加工的焦平面在工件上，所述定位传感器和距离传感器与所述控制系统通信连接并将检测信号传递给所述控制系统，所述控制系统与所述横向阻挡机构、纵向阻挡机构、伺服移动平台、激光深雕机构电连并控制所述横向阻挡机构、纵向阻挡机构、伺服移动平台、激光深雕机构执行相关动作。

2.根据权利要求1所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述横向阻挡机构包括挡块和第一气缸，所述第一气缸设置在所述输送线下方，所述挡块与所述第一气缸的活动端相连，所述控制系统与所述第一气缸电连并可驱动所述第一气缸运动将所述挡块伸出至所述输送线的上方。

3.根据权利要求2所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述纵向阻挡机构包括推块和第二气缸，所述第二气缸设置在所述输送线的一侧，所述推块与所述第二气缸的活动端相连，所述控制系统与所述第二气缸电连并可驱动所述第二气缸运动推动所述推块并带动工件移动至所述激光深雕机构的一侧。

4.根据权利要求2或3所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述激光深雕机构至少包括两台激光深雕设备，两台所述激光深雕设备分别与所述控制系统电连。

5.根据权利要求2或3所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述输送线包括输送支架和动力机构组成，所述动力机构设置在所述输送支架上，所述动力机构包括电机以及电机驱动的传动件。

6.根据权利要求4所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述激光深雕设备还包括传输光纤：用于将所述激光发生器产生的能量输送至所述振镜头；烟雾净化器：用于对雕刻过程中产生的烟尘进行吸收处理；工控机：对工件需要的雕刻标记内容进行控制和编辑；气刀：用于振镜头进行保护。

7.根据权利要求4所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述铸件激光深雕装置还包括防护机构，所述防护机构包括激光防护罩和防护网，所述激光防护罩将所述振镜头包裹在内并设有激光出光孔，所述输送线、定位机构、自动调焦机构和激光深雕机构设置在所述防护网内。

8.根据权利要求7所述的铸件激光深雕装置，其特征在于，所述铸件激光深雕装置还包括冷却机构，所述冷却机构包括冷却模块以及冷却水管和冷水机组成的冷却回路，所述冷却回路经过所述振镜头并对振镜头进行冷却。