[实用新型]一种不易残胶破坏力小的漆面膜

权利要求书

1.一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，包括涂层薄膜(1)；

所述涂层薄膜(1)的上部通过低粘涂层(2)粘黏有剥离膜(3)；所述涂层薄膜(1)的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜(4)，所述磁控溅射金属镀膜(4)下部通过涂胶层(5)复合有基膜层(6)。

2.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述涂层薄膜(1)采用高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，所述涂层薄膜(1)厚度为5-8μm。

3.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述低粘涂层(2)采用亚克力胶低粘涂层或丙烯酸低粘胶涂层，所述低粘涂层(2)用于粘附于玻璃面板上，所述低粘涂层(2)与所述玻璃面板之间的粘着力为15～30(g/25mm)。

4.根据权利要求3所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述低粘涂层(2)的厚度为6-10μm。

5.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述剥离膜(3)采用麦拉膜或离型膜，所述剥离膜(3)与低粘涂层(2)之间的粘着力为2～3(g/25mm)；所述低粘涂层(2)与所述涂层薄膜(1)之间的粘着力为800～1000(g/25mm)。

6.根据权利要求5所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述剥离膜(3)厚度为30-60μm。

7.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述涂胶层(5)采用弹性体型压敏胶或树脂型压敏胶，所述涂胶层(5)与磁控溅射金属镀膜(4)以及基膜层(6)之间的粘着力为800～1200(g/25mm)。

8.根据权利要求7所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述涂胶层(5)厚度为5-8μm。

9.根据权利要求1所述的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，其特征在于，所述涂层薄膜(1)上部与低粘涂层(2)相对的面采用电晕机进行电晕磁化处理。