[实用新型]一种不易残胶破坏力小的漆面膜

说明书

本实用新型公开了一种不易残胶破坏力小的漆面膜，涉及漆面膜领域。本实用新型包括涂层薄膜；涂层薄膜上部通过低粘涂层粘黏有剥离膜；所述涂层薄膜的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜，磁控溅射金属镀膜下部通过涂胶层复合有基膜层。本实用新型具有耐磨、耐高温、表面硬度高、韧性强的优良特性，能够对玻璃进行很好的保护，采用电晕磁化处理的涂层薄膜与玻璃板的粘着力适中，增加承印物表面的附着能力，能够轻易从玻璃板上撕除且无残胶，并且金属化膜和磁控溅射金属镀膜层与基膜层的层与层之间粘着力高，提高了整体保护膜的强度和使用寿命。

技术领域

本实用新型属于漆面膜领域，特别是涉及一种不易残胶破坏力小的漆面膜。

背景技术

玻璃被运用于光学透镜或透光基底等工艺时，经常会涉及到对整个表面或部分表面的加工处理的步骤，当需要在部分表面进行加工处理时，需要对不需要处理的表面进行保护，通常做法是在不需要处理的表面上贴附保护膜，但现有技术中，保护膜柔软，保护膜与玻璃表面之间贴合时难度较大，容易出现褶皱或气泡，无法起到很好的保护，重工率较高；完成加工后不易撕除保护膜，且保护膜具有黏度，撕除后会有一定的残胶，尤其是在重要器件或重要位置的表面上留有残胶，后续清除时，容易损伤重要器件或重要位置的表面。因此针对以上问题提供一种不易残胶破坏力小的漆面膜具有重要意义。

实用新型内容

本实用新型提供了一种不易残胶破坏力小的漆面膜，解决了以上问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型的一种不易残胶破坏力小的漆面膜，包括涂层薄膜；

所述涂层薄膜上部通过低粘涂层粘黏有剥离膜；所述涂层薄膜的下部通过磁控溅射方式复合有磁控溅射金属镀膜，所述磁控溅射金属镀膜下部通过涂胶层复合有基膜层。

进一步地，所述涂层薄膜采用高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，所述涂层薄膜厚度为5-8μm。

进一步地，所述低粘涂层采用亚克力胶低粘涂层或丙烯酸低粘胶涂层，所述低粘涂层用于粘附于玻璃面板上，所述低粘涂层与所述玻璃面板之间的粘着力为15～30(g/25mm)。

进一步地，所述低粘涂层的厚度为6-10μm。

进一步地，所述剥离膜采用麦拉膜或离型膜，所述剥离膜与低粘涂层之间的粘着力为2～3(g/25mm)；所述低粘涂层与所述涂层薄膜之间的粘着力为800～1000(g/25mm)。

进一步地，所述剥离膜厚度为30-60μm。

进一步地，所述涂胶层采用弹性体型压敏胶或树脂型压敏胶，所述涂胶层与磁控溅射金属镀膜以及基膜层之间的粘着力为800～1200(g/25mm)。

进一步地，所述涂胶层厚度为5-8μm。

进一步地，所述基膜层采用高性能聚氨酯TPU膜、PE膜、PP膜、PVC膜或PET膜中任意一种膜，或由多种复合形成的产品膜。

进一步地，所述涂层薄膜上部与低粘涂层相对的面采用电晕机进行电晕磁化处理。

本实用新型相对于现有技术包括有以下有益效果：

1、本实用新型在基膜层上通过涂胶层复合带有磁控溅射金属镀膜层的高精度、高平整度、光学级的pet薄膜，并通过低粘涂层设置剥离膜，金属化膜和磁控溅射金属镀膜层的设置使保护膜具有耐磨、耐高温、表面硬度高、韧性强的优良特性，能够对玻璃进行很好的保护，采用电晕磁化的方式，与玻璃板的粘着力适中，增加承印物表面的附着能力，并且金属化膜和磁控溅射金属镀膜层与基膜层的层与层之间粘着力高能够轻易从玻璃板上撕除且无残胶。