[实用新型]一种真空镀膜机的离子辅助装置

权利要求书

1.一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩（13），其特征在于：所述离子辅助装置保护罩（13）的内部设置有离子蒸发装置（2），所述离子蒸发装置（2）的一侧固定设有安装架（16），所述安装架（16）的顶部设置有粒子发射源（5），所述粒子发射源（5）设置在离子蒸发装置（2）的上方。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述离子辅助装置保护罩（13）的一侧设置有电机（15），所述电机（15）的一端设置有支架（3），所述支架（3）的一端固定设有离子辅助装置盖板（14），所述离子辅助装置盖板（14）设置在离子辅助装置保护罩（13）的上方，所述电机（15）上安装有控制器（1）。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述电机（15）的一端设置有传动架（17），所述电机（15）的一端转动设有转轴（18），所述转轴（18）的一端贯穿传动架（17），并与传动架（17）转动连接。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述支架（3）的内部开设有卡槽（10），所述传动架（17）的一端延伸至卡槽（10）的内部，并与卡槽（10）滑动连接。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述卡槽（10）的内侧开设有螺纹槽（11），所述转轴（18）的一端延伸至螺纹槽（11）的内部，并与螺纹槽（11）旋合连接。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述安装架（16）与粒子发射源（5）之间固定设有固定架（4），所述固定架（4）上设置有支撑架（8）。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述粒子发射源（5）靠近离子蒸发装置（2）的一端设置有离子蒸发装置螺母（6），所述粒子发射源（5）的另一端设置有导气管（9），所述导气管（9）的一端连接有主导管连接管（12），所述支撑架（8）设置在导气管（9）和主导管连接管（12）之间。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜机的离子辅助装置，其特征在于：所述主导管连接管（12）的一端设置在固定架（4）上，所述固定架（4）与主导管连接管（12）之间设置有绝缘管（7）。