[实用新型]一种真空镀膜机的离子辅助装置

说明书

本实用新型属于真空镀膜机技术领域，具体涉及一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩，所述离子辅助装置保护罩的内部设置有离子蒸发装置，所述离子蒸发装置的一侧固定设有安装架，所述安装架的顶部设置有粒子发射源，本实用新型设置了相互配合的粒子发射源、主导链接管、离子蒸发装置和离子辅助装置保护罩，即通过控制器设置需要输出流量，控制系统会依据控制器设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过控制器自动传送给离子发装置，通过这样的设置让离子辅助装置减少发热小、减少环境影响、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜机技术领域，具体涉及一种真空镀膜机的离子辅助装置。

背景技术

随着科技技术的不断发展，真空镀膜技术得到了广范的应用，陶瓷、PC、常规塑料件、金属、玻璃、水晶玻璃等都能使用真空镀膜机进行二次加工处里。

通过真空镀膜机加工可以使产品的外观更美观，表面更光滑，金属光泽彩色化，玻璃的透过率的提升，带宽的改变等，改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；

现有的昭和离子辅助装置发热量大，同时对环境具有极大的影响，而且现有的膜层的稳定性差、附着力低。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机的离子辅助装置，以解决上述背景技术中提出的现有的昭和离子辅助装置发热量大，同时对环境具有极大的影响，而且现有的膜层的稳定性差、附着力低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩，所述离子辅助装置保护罩的内部设置有离子蒸发装置，所述离子蒸发装置的一侧固定设有安装架，所述安装架的顶部设置有粒子发射源，所述粒子发射源设置在离子蒸发装置的上方。

优选的，所述离子辅助装置保护罩的一侧设置有电机，所述电机的一端设置有支架，所述支架的一端固定设有离子辅助装置盖板，所述离子辅助装置盖板设置在离子辅助装置保护罩的上方，所述电机上安装有控制器。

优选的，所述电机的一端设置有传动架，所述电机的一端转动设有转轴，所述转轴的一端贯穿传动架，并与传动架转动连接。

优选的，所述支架的内部开设有卡槽，所述传动架的一端延伸至卡槽的内部，并与卡槽滑动连接。

优选的，所述卡槽的内侧开设有螺纹槽，所述转轴的一端延伸至螺纹槽的内部，并与螺纹槽旋合连接。

优选的，所述安装架与粒子发射源之间固定设有固定架，所述固定架上设置有支撑架。

优选的，所述粒子发射源靠近离子蒸发装置的一端设置有离子蒸发装置螺母，所述粒子发射源的另一端设置有导气管，所述导气管的一端连接有主导管连接管，所述支撑架设置在导气管和主导管连接管之间。

优选的，所述主导管连接管的一端设置在固定架上，所述固定架与主导管连接管之间设置有绝缘管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型设置了相互配合的粒子发射源、主导链接管、离子蒸发装置和离子辅助装置保护罩，即通过控制器设置需要输出流量，控制系统会依据控制器设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过控制器自动传送给离子发装置，通过这样的设置让离子辅助装置减少发热小、减少环境影响、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

（2）本实用新型设置了位于电机上的离子辅助装置盖板，在完成工作后离子辅助装置盖板可以在转轴和传动架的作用下自动盖住粒子发射源，从而很好的保护粒子发射源不会在阻蒸或电子枪工作时污染，这样不仅延长了使用周期，同时也提升了品质。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；