[实用新型]用于刻蚀装置的缓冲构件和刻蚀装置有效

专利信息
申请号: 202121224576.8 申请日: 2021-06-02
公开(公告)号: CN216120217U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 王铖熠;郭颂;张霄;刘海洋;张怀东;张亦涛;胡冬冬;许开东 申请(专利权)人: 北京鲁汶半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01J37/32
代理公司: 济南文衡创服知识产权代理事务所(普通合伙) 37323 代理人: 赵可
地址: 221300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 刻蚀 装置 缓冲 构件
【权利要求书】:

1.一种用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述刻蚀装置包括:

腔体(1),所述腔体(1)内限定出腔室,所述腔体(1)上设有与所述腔室连通的抽真空管路,所述抽真空管路与干泵(26)相连以使所述腔室内保持真空环境,所述抽真空管路和所述干泵(26)均位于所述腔室外,在所述腔室内固定有晶圆(12);

第一阀体(24),所述第一阀体(24)设在所述抽真空管路上,且位于所述腔体(1)和所述干泵(26)之间,用于控制所述抽真空管路的通断;

缓冲构件(25),所述缓冲构件(25)设在所述抽真空管路上,且位于所述腔体(1)和所述第一阀体(24)之间,以在抽真空时减小对所述晶圆(12)的瞬间抽吸作用力。

2.根据权利要求1所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述缓冲构件(25)包括:

中心支架(29),所述中心支架(29)固设在所述抽真空管路上,所述中心支架(29)内设有横梁(32);

密封圈(28),所述密封圈(28)套设在所述中心支架(29)外周上;

阀片(30),所述阀片(30)可转动地连接在所述横梁(32)上,所述干泵(26)的抽吸作用可驱动所述阀片(30)在打开位置和关闭位置进行切换;

弹性件(31),所述弹性件(31)连接在所述阀片(30)和所述横梁(32)之间,在所述阀片(30)处于所述关闭位置时所述弹性件(31)处于自然状态,在所述阀片(30)处于所述打开位置时所述弹性件(31)处于压缩状态。

3.根据权利要求2所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述横梁(32)包括一个,所述阀片(30)包括第一阀片,所述第一阀片可转动地连接在所述横梁(32)的一侧,所述第一阀片和所述横梁(32)之间设有所述弹性件(31)。

4.根据权利要求3所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述横梁(32)的另一侧设有封闭片,所述封闭片分别与所述横梁(32)和所述中心支架(29)的内周壁固定相连且封闭住所述另一侧的开口。

5.根据权利要求3所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述阀片(30)还包括第二阀片,所述第二阀片可转动地连接在所述横梁(32)的另一侧,所述第二阀片和所述横梁(32)之间设有所述弹性件(31)。

6.根据权利要求2所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述横梁(32)包括多个,所述阀片(30)包括多个,每个所述阀片(30)均可转动地连接在对应的所述横梁(32)上,每个所述阀片(30)和对应的所述横梁(32)之间均设有所述弹性件(31)。

7.根据权利要求6中所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述阀片(30)的厚度为t,其中1mm≤t≤3mm。

8.根据权利要求7所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述阀片(30)形成为不锈钢片。

9.根据权利要求8所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25),其特征在于,所述阀片(30)的打开位置和所述关闭位置之间的夹角为α,其中0°≤α≤60°。

10.一种刻蚀装置,其特征在于,包括根据权利要求1-9中任一项所述的用于刻蚀装置的缓冲构件(25)。

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