[实用新型]一种用于实现双面激光直写光刻的装置有效
申请号: | 202121272827.X | 申请日: | 2021-06-08 |
公开(公告)号: | CN215006245U | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 栾世奕;宋毅;桂成群;薛兆丰 | 申请(专利权)人: | 矽万(上海)半导体科技有限公司;武汉大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 丁利华 |
地址: | 200131 上海市浦东新区自由*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 实现 双面 激光 光刻 装置 | ||
1.一种用于实现双面激光直写光刻的装置,其特征在于,包括:用于支撑衬底的支架主体、用于限制衬底X方向位移的X方向调节螺丝、用于限制衬底Y方向位移的Y方向调节螺丝以及用于限制衬底Z方向位移的Z方向调节螺丝,
所述支架主体由一底面及设置在所述底面上的边框构成,并且在所述边框内侧沿边框具有阶梯部,所述阶梯部用于支撑衬底并限制衬底Z方向向下的自由度,所述衬底与所述支架主体通过间隙配合安装在一起,
所述X方向调节螺丝设置于所述支架主体的纵向边框上,其螺杆下表面部分与阶梯部接触,
所述Y方向调节螺丝设置于所述支架主体的横向边框上,其螺杆下表面部分与阶梯部接触,
所述支架主体的横向边框及纵向边框连接处还具有向外延伸的角部,所述Z方向调节螺丝设置于所述角部,所述Z方向调节螺丝的螺杆部分垂直于底面并靠近阶梯部。
2.根据权利要求1所述的用于实现双面激光直写光刻的装置,其特征在于,所述X方向调节螺丝、所述Y方向调节螺丝和所述Z方向调节螺丝为弹性材质。
3.根据权利要求2所述的用于实现双面激光直写光刻的装置,其特征在于,所述X方向调节螺丝、所述Y方向调节螺丝和所述Z方向调节螺丝为橡胶材质。
4.根据权利要求3所述的用于实现双面激光直写光刻的装置,其特征在于,所述Z方向调节螺丝运用螺丝头实现对衬底Z方向向上自由度的控制,从而配合所述支架主体对Z方向约束力进行调控。
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