[实用新型]一种混合废光阻清洗剂的回收设备有效
申请号: | 202121336423.2 | 申请日: | 2021-06-16 |
公开(公告)号: | CN215576099U | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 刘小勇;房龙翔;叶鑫煌 | 申请(专利权)人: | 福建省佑达环保材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 张爱红 |
地址: | 362100 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 混合 废光阻清 洗剂 回收 设备 | ||
本实用新型公开了一种混合废光阻清洗剂的回收设备,涉及清洗剂回收设备领域,针对现有的洗剂回收装置内部不具有支撑结构且加热罐防护盖安装较为麻烦的问题,现提出如下方案,其包括支撑架、箱体和加热罐,所述支撑架顶端固定安装有箱体,且所述支撑架底端四角均固定安装有万向轮,所述箱体顶端开设有安装槽,且所述安装槽内固定安装有加热罐,所述加热罐顶端铰接有防护盖;所述防护盖圆周侧壁固定安装有第二支块,且所述加热罐圆周侧壁固定安装有第一支块。本实用新型结构新颖,且该装置通过设有两组卡位结构和固定螺栓配合,便于工作人员固定防护盖,且通过支撑装置、限位装置、固定环与辅位环配合,起到固定防护带的作用。
技术领域
本实用新型涉及清洗剂回收设备领域,尤其涉及一种混合废光阻清洗剂的回收设备。
背景技术
在半导体或液晶面板等的制造过程中,需要在基板上涂布光阻液以曝光显影。在此过程中,为了使得光阻液可以均匀地涂布在基板上,通常会先在基板上涂布大量的光阻液,以使涂布后光阻液能够均匀披覆于整个基板上,然而此种涂布方式中光阻液的利用率一般约为 10%,而其余高达90%的光阻液都在涂布过程中直接被排入废液槽内,所以使用大量的光阻液来涂布基板将造成浪费,同时也会衍生出生产成本高的问题,因此,就经济方面、环境方面考虑,均期望对涂布之后的含有光阻的混合废液进行回收再利用。
但现有的清洗剂回收装置不方便清洗,在使用时,常常会放置一个防护袋,起到维护的作用,但没有支撑装置,在废液进入加热罐时,会使防护袋褶皱,不利于存储废液,影响回收效果,且不方便清洗,且现有的加热罐防护盖安装较为麻烦,降低了工作效率。因此,为了解决上述问题,我们提出了一种混合废光阻清洗剂的回收设备。
实用新型内容
本实用新型提出的一种混合废光阻清洗剂的回收设备,解决了现有的清洗剂回收装置内部不具有支撑结构且加热罐防护盖安装较为麻烦的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种混合废光阻清洗剂的回收设备,包括支撑架、箱体和加热罐,所述支撑架顶端固定安装有箱体,且所述支撑架底端四角均固定安装有万向轮,所述箱体顶端开设有安装槽,且所述安装槽内固定安装有加热罐,所述加热罐顶端铰接有防护盖;
所述防护盖圆周侧壁固定安装有第二支块,且所述加热罐圆周侧壁固定安装有第一支块,所述第一支块与第二支块位于同一竖直水平面,且所述第二支块顶端螺纹安装有固定螺栓,所述固定螺栓底端螺纹贯穿第一支块和第二支块;
所述防护盖圆周测壁固定安装有两个结构相同且呈对称分布的固定块,且所述加热罐圆周侧壁固定安装有两侧结构相同且呈对称分布的支撑块,两个所述支撑块顶端均开设有固定槽,且同组所述固定块与固定槽之间均设有卡位结构;
所述加热罐内开设有两个结构相同且呈对称分布的收纳槽,且所述加热罐内设有支撑装置,所述加热罐内壁固定安装有液面检测仪,且所述液面检测仪型号为DM5110。
优选的,所述卡位结构包括第一活动槽、卡位杆和第一弹簧,所述支撑块靠近加热罐一端均开设有第一活动槽,且所述第一活动槽内均滑动安装有卡位杆,所述第一活动槽靠近加热罐一侧内壁均固定连接有第一弹簧,且所述第一弹簧远离加热罐一端均与同侧所述卡位杆靠近加热罐一端固定连接,所述卡位杆远离加热罐一端均滑动贯穿同侧所述固定槽。
优选的,所述卡位杆远离加热罐一端均呈半圆状,且两个所述固定块均呈L形,两侧所述固定块竖直段底端均呈工字状。
优选的,所述支撑装置包括固定环、辅位环、支撑杆和第二弹簧,所述加热罐内滑动安装有两侧结构相同且呈对称分布的固定环,且两个所述固定环均呈圆弧状,两个所述固定环两端均开设有滑槽,且两个所述固定环相对的一侧滑槽之间均滑动连接有辅位环,两个所述固定环均滑动套设有支撑杆,且所述支撑杆与如同侧所述收纳槽底端内壁之间均固定连接有第二弹簧,两侧所述支撑杆远离同侧所述固定环一端与收纳槽之间均设有限位装置。
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