[实用新型]一种高纯度纳米氮化硅粉体制备设备有效
申请号: | 202121413627.1 | 申请日: | 2021-06-24 |
公开(公告)号: | CN215234231U | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | 王桢;温广武;张俊亭;杨国威;刘峰;孙志远 | 申请(专利权)人: | 山东硅纳新材料科技有限公司 |
主分类号: | B01J19/24 | 分类号: | B01J19/24;B01J19/00;B01J4/00;C01B21/068;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人: | 邢江峰 |
地址: | 255000 山东省淄博*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纯度 纳米 氮化 体制 设备 | ||
本实用新型公开了一种高纯度纳米氮化硅粉体制备设备,涉及纳米氮化硅领域,包括支撑底板,所述支撑底板的两侧边对称焊接有连接板,所述连接板的顶面均匀开设有通接孔,一块所述支撑底板的一侧边螺栓连接有控制面板,所述支撑底板的顶面水平焊接有主处理罐,所述主处理罐的外侧边螺栓连接有添加剂盒,所述主处理罐的外侧底面垂直向下焊接有出料管,所述出料管的外侧边螺栓连接有出料阀,所述主处理罐的外侧顶面垂直焊接有进气管,所述主处理罐的一端水平焊接有进料管,所述主处理罐的一端水平焊接有出气管。本实用新型装置设计结构简单操作简便,采用了高温流动性的处理方式使得接触面积更大,让反应的更加的彻底高效,使其反应后的纯度更高。
技术领域
本实用新型涉及纳米氮化硅技术领域,具体是一种高纯度纳米氮化硅粉体制备设备。
背景技术
氮化硅的强度很高,尤其是热压氮化硅,是世界上最坚硬的物质之一。它极耐高温,强度一直可以维持到1200℃的高温而不下降,受热后不会熔成融体,一直到1900℃才会分解,并有惊人的耐化学腐蚀性能,能耐几乎所有的无机酸和30%以下的烧碱溶液,也能耐很多有机酸的腐蚀;同时又是一种高性能电绝缘材料。它是一种重要的结构陶瓷材料,硬度大,本身具有润滑性,并且耐磨损,为原子晶体;高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。
对于现在的在进行生产时还是会有一些杂质掺杂,使得氮化硅的纯度不够,无法达到需要的程度,现在的一些提纯方式均是使得氮化硅固定化反应操作,使得接触面积受限制,让其反应的不够彻底,同时受热不均匀导致了反应的不完全性,均是成为提纯不够完整的重要因素。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种高纯度纳米氮化硅粉体制备设备,以解决上述背景技术中提出的对于现在的在进行生产时还是会有一些杂质掺杂,使得氮化硅的纯度不够,无法达到需要的程度,现在的一些提纯方式均是使得氮化硅固定化反应操作,使得接触面积受限制,让其反应的不够彻底,同时受热不均匀导致了反应的不完全性,均是成为提纯不够完整的重要因素的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种高纯度纳米氮化硅粉体制备设备,包括支撑底板,所述支撑底板的两侧边对称焊接有连接板,所述连接板的顶面均匀开设有通接孔,一块所述支撑底板的一侧边螺栓连接有控制面板,所述支撑底板的顶面水平焊接有主处理罐,所述主处理罐的外侧边螺栓连接有添加剂盒,所述主处理罐的外侧底面垂直向下焊接有出料管,所述出料管的外侧边螺栓连接有出料阀,所述主处理罐的外侧顶面垂直焊接有进气管,所述主处理罐的一端水平焊接有进料管,所述主处理罐的一端水平焊接有出气管,所述主处理罐的内侧边固定设置有内保温层,所述内保温层的内侧边设置有加热管,所述内保温层的内侧边水平焊接有中横杆,所述中横杆的内侧边设置有加热丝,所述内保温层的内侧边均匀焊接有隔离块,所述添加剂盒的顶面设置有密封盖板,所述添加剂盒的内侧边焊接有漏斗块,所述添加剂盒的内侧边螺栓连接有抽取泵,所述支撑底板的顶面开设有顶卡槽。
作为本实用新型的一种优选实施方式:所述支撑底板的个数为两块,且两块支撑底板相互之间平行设置,连接板的个数为支撑底板的个数两倍,且分别两两一组对称固定设置在支撑底板的两侧边靠近底面位置。
作为本实用新型的一种优选实施方式:所述主处理罐水平固定设置在顶卡槽的内侧边位置,且支撑底板分别固定设置在主处理罐的外侧边靠近两端位置,出料阀与控制面板之间通过电性连接设置,且出料管与主处理罐的内部保持通接设置。
作为本实用新型的一种优选实施方式:所述进气管固定设置在主处理罐的外侧边远离出气管的一端位置,进料管的一端垂直固定设置在主处理罐的一端靠近顶面边缘位置,出气管水平固定设置在主处理罐远离进料管的一端位置,且出气管的一端垂直固定设置在主处理罐的一端靠近底面边缘位置。
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