[实用新型]聚焦罩体结构、检测光源结构与检测光源装置有效

专利信息
申请号: 202121432895.8 申请日: 2021-06-25
公开(公告)号: CN216113686U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 杨舜杰 申请(专利权)人: 新耀光科技有限公司
主分类号: F21S8/08 分类号: F21S8/08;F21V15/02;F21V17/10;G01M11/00;F21Y115/10
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 周春发
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 聚焦 结构 检测 光源 装置
【权利要求书】:

1.一种聚焦罩体结构,其特征在于,至少包括有:

一壳体(111);以及

二限位件(112),是分别设置于该壳体(111)的二端部;以及

该聚焦罩体结构(11)的下端部是进一步设置有一基板(12),该基板(12)对应该限位件(112)的二端部是分别凹设有一限位孔(121),该限位件(112)是对应卡合于该限位孔(121)。

2.如权利要求1所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该壳体(111)是呈上宽下窄的圆锥型。

3.如权利要求1所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该壳体(111)的上周围是进一步环设有一套环(113),且该些限位件(112)是连接于该套环(113)。

4.如权利要求3所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该限位件(112)的二端部是进一步包括有二连接该套环(113)的顶抵件(114)。

5.如权利要求1所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该基板(12)面对该聚焦罩体结构(11)的一端面是进一步设置有一电路板(122),且该电路板(122)上是设置有至少一发光体(123)。

6.如权利要求5所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该发光体(123)是为发光二极管。

7.如权利要求5所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该发光体(123)是容置于该壳体(111)的一容置空间(1111),且该壳体(111)是为透光,该发光体(123)所发射的光线是透过该壳体(111)而照射至该壳体(111)外部。

8.如权利要求1所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该基板(12)远离该聚焦罩体结构(11)的一端面是进一步设置有一固定支架(13),该固定支架(13)是包括有一第一底座(131),以及一连接该第一底座(131)的第二底座(132),其中该第一底座(131)与该第二底座(132)之间是夹设有一角度(θ)。

9.如权利要求8所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该角度(θ)是介于0.00°至90.00°之间。

10.如权利要求8所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该聚焦罩体结构(11)远离该基板(12)的一端面是进一步设置有一扣合件(14),该扣合件(14) 是包括有一下表面(141),以及一与该下表面(141)相对设置的第二上表面(142)。

11.如权利要求10所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该下表面(141)是锁固于该基板(12),而该第二上表面(142)是卡合于该壳体(111)上。

12.如权利要求10所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该扣合件(14)的二端部是分别包括有分别连接该下表面(141)与该第二上表面(142)的一侧部(143)。

13.如权利要求12所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该侧部(143)是呈Y字型。

14.如权利要求10所述的聚焦罩体结构,其特征在于,该固定支架(13)的该第二底座(132)是开设有至少一第一孔洞(1321),该基板(12)是开设有至少一对应该第一孔洞(1321)的第二孔洞(124),该扣合件(14)的该下表面(141)是开设有至少一对应该第二孔洞(124)的第三孔洞(1411),至少一第一锁固件(15)是贯穿该第一孔洞(1321)、该第二孔洞(124)与该第三孔洞(1411),以将该扣合件(14)与该基板(12)连同该聚焦罩体结构(11)锁固于该第二底座(132)上,使得该壳体(111)的一第一上表面(1112)与该第一底座(131)夹设该角度(θ)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新耀光科技有限公司,未经新耀光科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121432895.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top