[实用新型]一种镜片双平面研磨抛光机有效

专利信息
申请号: 202121439069.6 申请日: 2021-06-26
公开(公告)号: CN214923060U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 吴文忠;魏明 申请(专利权)人: 南京恒一光电有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B27/00;B24B55/06;B24B55/02;B24B47/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 镜片 平面 研磨 抛光机
【权利要求书】:

1.一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:包括机架(1),所述机架(1)的顶壁转动设置有下研磨盘(2),所述机架(1)的顶面架设有横梁(11),所述横梁(11)上安装有主气缸(12),且所述主气缸(12)的活塞杆朝向所述下研磨盘(2)固定有冷却研磨盘(3),所述机架(1)的顶壁位于所述下研磨盘(2)外侧转动设置有内齿圈(13),所述机架(1)的顶壁位于所述下研磨盘(2)的中心转动设置有主轴(14),且所述主轴(14)上套设有太阳齿轮(15),所述太阳齿轮(15)和所述内齿圈(13)之间设置有用于放置镜片的游心轮(4),且所述游心轮(4)分别啮合所述太阳齿轮(15)和内齿圈(13);

所述机架(1)的顶壁位于所述内齿圈(13)的外侧周向设置有用于朝向所述太阳齿轮(15)一侧吸尘的下吸尘组件(5),所述冷却研磨盘(3)的外侧周向设置有用于朝向所述机架(1)顶面吸尘的上吸尘组件(6),所述上吸尘组件(6)和下吸尘组件(5)连接有集尘水箱(7)。

2.根据权利要求1所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述下吸尘组件(5)包括不少于两个周向设置在所述内齿圈(13)外侧的下吸尘壳(51),且所述下吸尘壳(51)朝向所述太阳齿轮(15)的壳壁设置有若干下吸尘口(511),所述集尘水箱(7)上设置有连通所述下吸尘壳(51)的吸尘泵一(52),且所述吸尘泵一(52)的排气口连通所述集尘水箱(7)。

3.根据权利要求2所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述上吸尘组件(6)包括不少于两个周向设置在所述冷却研磨盘(3)外侧的上吸尘壳(61),且所述上吸尘壳(61)朝向所述机架(1)顶面的壳壁设置有若干上吸尘口(611),所述集尘水箱(7)上设置有连通所述上吸尘壳(61)的吸尘泵二(62),且所述吸尘泵二(62)的排气口连通所述集尘水箱(7)。

4.根据权利要求2或3所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述机架(1)的顶面位于所述内齿圈(13)的外侧周向开设有供所述下吸尘壳(51)置入的环槽(16),所述环槽(16)的槽底壁固定有收纳气缸(54),且所述收纳气缸(54)的活塞杆竖直向上并固定有用于夹持所述下吸尘壳(51)的固定夹(55);

所述收纳气缸(54)的活塞杆伸长时,所述下吸尘壳(51)伸出所述环槽(16)。

5.根据权利要求3所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述冷却研磨盘(3)的外周壁沿自身轴向开设有若干卡槽(31),所述上吸尘壳(61)卡接所述卡槽(31)。

6.根据权利要求1所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述机架(1)的顶壁开设有清理槽(17),所述清理槽(17)的槽壁开设有导出槽(171),且所述导出槽(171)连通所述集尘水箱(7),所述机架(1)的顶壁位于所述清理槽(17)一侧铰接有用于罩设在所述清理槽(17)上的罩壳(19),所述清理槽(17)内朝向所述导出槽(171)设置有吹气壳(8),所述机架(1)上设置有吹气泵(81),且所述吹气壳(8)连接有吹气泵(81)。

7.根据权利要求6所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述清理槽(17)的槽底壁固定有弹性垫圈(18)。

8.根据权利要求1所述的一种镜片双平面研磨抛光机,其特征在于:所述主轴(14)的外轴壁沿自身轴向开设有导槽(141),所述冷却研磨盘(3)开设有供所述主轴(14)穿接的导孔(32),所述导孔(32)的孔壁固定有导条(33),且所述导条(33)滑移连接所述导槽(141)。

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