[实用新型]一种镜片双平面研磨抛光机有效

专利信息
申请号: 202121439069.6 申请日: 2021-06-26
公开(公告)号: CN214923060U 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 吴文忠;魏明 申请(专利权)人: 南京恒一光电有限公司
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B27/00;B24B55/06;B24B55/02;B24B47/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 镜片 平面 研磨 抛光机
【说明书】:

本申请涉及镜片研磨抛光的技术领域,尤其是涉及一种镜片双平面研磨抛光机,包括机架,机架的顶壁转动设置有下研磨盘,机架的顶面架设有横梁,横梁上安装有主气缸,主气缸的活塞杆朝向下研磨盘固定有冷却研磨盘,机架顶壁位于下研磨盘外侧转动设置有内齿圈,机架的顶壁位于下研磨盘中心转动设置有主轴,主轴上套设有太阳齿轮,太阳齿轮和内齿圈之间设置有用于放置镜片的游心轮,游心轮分别啮合太阳齿轮和内齿圈;机架的顶壁位于太阳齿轮外侧周向设置有下吸尘组件,冷却研磨盘的外侧周向设置有上吸尘组件,上吸尘组件和下吸尘组件连接有集尘水箱。本申请具有减少镜片研磨过程产生的颗粒物质向外迸射并污染工作环境的效果。

技术领域

本申请涉及镜片研磨抛光的技术领域,尤其是涉及一种镜片双平面研磨抛光机。

背景技术

光学镜片在加工过程中主要经历切割、整平、开球面、粗磨、精磨后抛光等一系列工序,其中镜片的研磨工艺以及研磨设备对光学镜片的成品质量影响较大,研磨装置大多采用双平面研磨抛光机。

公告号为CN208342534U的中国专利公开了一种研磨抛光机,包括机架、油浸式一体传动机芯、水盆、挡水圈、中心小轴、下磨轴、顶轮、下研磨盘、冷却研磨盘、水槽、浮动座、旋转接头、横梁、立柱以及主气缸,所述油浸式一体传动机芯位于所述机架的底部,所述油浸式一体传动机芯为所述研磨抛光机提供传动力;所述横梁与所述立柱连接并位于所述机架的上方,所述横梁的上方安装有主气缸,所述横梁的下方设置有冷却研磨盘,所述主气缸的移动轴尾端通过所述浮动座与所述冷却研磨盘连接,所述主气缸可控制所述移动轴竖直移动,所述旋转接头套在所述浮动座的外壁上,所述水槽位于所述冷却研磨盘的上方;所述下研磨盘位于所述冷却研磨盘的下方,所述中心小轴可旋转地贯穿所述下研磨盘的轴心设置,所述顶轮套在所述中心小轴朝向所述冷却研磨盘方向的一端,所述冷却研磨盘的轴孔可套在所述顶轮上;所述下磨轴可旋转地套在所述中心小轴的外侧,所述下磨轴与所述下研磨盘连接,所述下研磨盘上可放置装夹工件的工件治具;所述挡水圈套在所述下研磨盘的外周,所述水盆位于所述下研磨盘的下方,并且所述水盆的外壁与所述挡水圈的外环在轴向上对齐。

针对上述中的相关技术,发明人认为下研磨盘和冷却研磨盘相对研磨镜片过程中,常常伴随颗粒物质向机架外迸射,不久容易造成工作环境污染,还严重危害操作人员的健康。

实用新型内容

为了减少镜片研磨过程产生的颗粒物质向外迸射并污染工作环境,本申请提供一种镜片双平面研磨抛光机。

本申请提供的一种镜片双平面研磨抛光机采用如下的技术方案:

一种镜片双平面研磨抛光机,包括机架,所述机架的顶壁转动设置有下研磨盘,所述机架的顶面架设有横梁,所述横梁上安装有主气缸,且所述主气缸的活塞杆朝向所述下研磨盘固定有冷却研磨盘,所述机架的顶壁位于所述下研磨盘外侧转动设置有内齿圈,所述机架的顶壁位于所述下研磨盘的中心转动设置有主轴,且所述主轴上套设有太阳齿轮,所述太阳齿轮和所述内齿圈之间设置有用于放置镜片的游心轮,且所述游心轮分别啮合所述太阳齿轮和内齿圈;

所述机架的顶壁位于所述内齿圈的外侧周向设置有用于朝向所述太阳齿轮一侧吸尘的下吸尘组件,所述冷却研磨盘的外侧周向设置有用于朝向所述机架顶面吸尘的上吸尘组件,所述上吸尘组件和下吸尘组件连接有集尘水箱。

通过采用上述技术方案,操作人员将镜片置于游心轮上并将游心轮置于下研磨盘上,使游心轮同时啮合太阳齿轮和内齿圈,然后驱动主气缸的活塞杆向下伸出,从而使冷却研磨盘相对下研磨盘研磨游心轮及其上镜片,同步启动下吸尘组件和上吸尘组件,从而使镜片研磨过程中迸射的颗粒等杂质导入集尘水箱内,降低对工作环境的污染,提高对操作人员的保护。

可选的,所述下吸尘组件包括不少于两个周向设置在所述内齿圈外侧的下吸尘壳,且所述下吸尘壳朝向所述太阳齿轮的壳壁设置有若干下吸尘口,所述集尘水箱上设置有连通所述下吸尘壳的吸尘泵一,且所述吸尘泵一的排气口连通所述集尘水箱。

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