[实用新型]电极极片、电化学装置和底涂装置有效
申请号: | 202121460184.1 | 申请日: | 2021-06-28 |
公开(公告)号: | CN215451468U | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 陈彬彬 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | H01M4/13 | 分类号: | H01M4/13;H01M4/62;H01M10/0525 |
代理公司: | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人: | 常鹏 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 电化学 装置 | ||
1.一种电极极片,其特征在于,包括:
集流体;
活性物质层;以及
导电层,所述导电层设置于所述集流体和所述活性物质层之间,所述导电层设置有凹痕,所述凹痕构造成由所述导电层与所述活性物质层接触的一面朝向与所述集流体接触的另一面凹陷设置。
2.根据权利要求1所述的电极极片,其特征在于,所述凹痕为多个,多个所述凹痕在所述导电层上均匀分布。
3.根据权利要求2所述的电极极片,其特征在于,所述凹痕构造成条状。
4.根据权利要求3所述的电极极片,其特征在于,所述凹痕构造成波浪形状。
5.根据权利要求3所述的电极极片,其特征在于,相邻的所述凹痕之间的间距为d1,d1满足关系式:1mm≤d1≤5mm。
6.根据权利要求2所述的电极极片,其特征在于,所述凹痕构造为圆形、椭圆形、锥形和多边形中的一种。
7.根据权利要求6所述的电极极片,其特征在于,相邻的所述凹痕之间的间距为d2,d2满足关系式:1mm≤d2≤15mm。
8.一种电化学装置,其特征在于,包括:权利要求1-7中任一项所述的电极极片。
9.一种底涂装置,其特征在于,包括:
料槽;
凹版辊,所述凹版辊设置于所述料槽的上方,所述凹版辊设置有印刷区,所述印刷区设置有用于在导电层上形成凹痕的印刷纹路。
10.根据权利要求9所述的底涂装置,其特征在于,所述印刷纹路上均匀分布有多个条状凸起或点状凸起。
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