[实用新型]一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构

说明书

本申请提供一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构，所述镀锅轨道保护结构位于真空蒸镀机的镀锅圆环形轨道的下方，镀锅轨道保护结构和镀锅圆环形轨道均位于真空蒸镀机的腔室的上部，镀锅圆环形轨道为圆环形的水平轨道，镀锅能够沿着所述镀锅圆环形轨道进行自转和公转，所述镀锅轨道保护结构包括底面、内侧面和外侧面，所述底面为水平的圆环形薄片，内侧面与外侧面为分别垂直固定在底面的里边沿与外边沿上的圆环形薄片，镀锅圆环形轨道设置在镀锅轨道保护结构内，内侧面与外侧面之间的距离大于镀锅圆环形轨道的宽度，内侧面和外侧面的高度大于等于镀锅圆环形轨道的厚度。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀机技术领域，更具体地，涉及一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

在真空蒸镀的加工工艺中，先采用粗抽泵和精抽泵对真空镀膜机的腔室内抽真空，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。

为了增大镀膜的效率，现有技术在真空镀膜机的腔室内设置有3个镀锅，3个镀锅上的工件能够同时被镀膜，为了提高镀膜的均匀性，镀锅沿着镀锅圆环形轨道同时进行公转和自转，均匀性高。但是，由于在镀膜的过程中，很多汽化的蒸镀材料会被镀膜到镀锅圆环形轨道上，当镀锅圆环形轨道上的镀膜层累积过多时，镀锅圆环形轨道上的镀膜层材料会脱离形成颗粒释放到腔体中，从而污染被镀膜工件产品，并且会对镀锅的公转造成影响。由于该镀膜层的粘附性强难以清理，需要定期或者不定期更换镀锅圆环形轨道，镀锅圆环形轨道成了易耗品，成本高，并且拆卸费时。

有鉴于此，本实用新型提供一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构，保护镀锅圆环形轨道不被镀膜，降低易耗品的成本，并且安装拆卸方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构，保护镀锅圆环形轨道不被镀膜，降低易耗品的成本，并且安装拆卸方便。

本申请的真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构，具有底面和两个垂直固定于底面的里边沿与外边沿的内侧面和外侧面，将镀锅圆环形轨道包围在所述镀锅轨道保护结构内，防止镀锅圆环形轨道被镀膜，一方面使得镀锅的转动不被影响；另一方面易耗品由镀锅圆环形轨道变成了本申请的所述镀锅轨道保护结构，镀锅圆环形轨道的材料厚实并且工艺要求高，而本申请的所述镀锅轨道保护结构为薄片并且工艺要求低，从而显著的降低了成本，本申请采用简单的方式即实现了优异的技术效果，具有大智慧；并且本申请的所述镀锅轨道保护结构安装简单、拆卸也简单，节约了加工时间成本。本申请人在此基础上完成了本申请。

一种真空蒸镀机的镀锅轨道保护结构，所述镀锅轨道保护结构1位于真空蒸镀机的镀锅圆环形轨道2的下方，镀锅轨道保护结构1和镀锅圆环形轨道2均位于真空蒸镀机的腔室的上部，镀锅圆环形轨道2为圆环形的水平轨道，镀锅能够沿着所述镀锅圆环形轨道2进行自转和公转，所述镀锅轨道保护结构1包括底面11、内侧面12和外侧面13，所述底面11为水平的圆环形薄片，内侧面12与外侧面13为分别垂直固定在底面11的里边沿与外边沿上的圆环形薄片，镀锅圆环形轨道2设置在镀锅轨道保护结构1内，内侧面12与外侧面13之间的距离大于镀锅圆环形轨道2的宽度，内侧面12和外侧面13的高度大于等于镀锅圆环形轨道2的厚度。

在一些实施方式中，所述底面11的宽度大于镀锅圆环形轨道2的宽度，底面11位于镀锅圆环形轨道2的下方。

进一步的，底面11与镀锅圆环形轨道2之间具有间隙或者不具有间隙。优选的，底面11与镀锅圆环形轨道2之间不具有间隙。