[实用新型]一种还原炉底座有效
| 申请号： | 202121485040.1 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN215592627U | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 杨明财;张宝顺;张婧;任长春;宗冰 | 申请（专利权）人： | 青海亚洲硅业半导体有限公司;亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 张巨箭 |
| 地址： | 810007 青*** | 国省代码： | 青海;63 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 还原 底座 | ||
1.一种还原炉底座，包括底盘(1)，其特征在于，所述底盘(1)上设有若干电极(2)、若干进料喷嘴(3)和出气口(4)；所述底盘(1)表面设有第一涂层(11)，所述电极(2)表面设有第二涂层(21)，所述进料喷嘴(3)表面设有第三涂层(31)，所述出气口(4)处设有第四涂层(41)；
所述第一涂层(11)、第三涂层(31)和第四涂层(41)均为耐磨蚀涂层，所述第二涂层(21)为高绝缘涂层。
2.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第一涂层(11)的厚度为0.05mm-4mm，所述第三涂层(31)和第四涂层(41)的厚度为0.03mm-2mm。
3.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第一涂层(11)、第三涂层(31)和第四涂层(41)为易导热涂层。
4.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第二涂层(21)的厚度为0.01mm-5mm。
5.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第一涂层(11)、第三涂层(31)、第四涂层(41)均包括碳化钨。
6.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第二涂层(21)包括氧化铝。
7.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述第一涂层(11)、第二涂层(21)、第三涂层(31)和第四涂层(41)均由涂层颗粒组成，所述涂层颗粒包括有棱角的粉末、球形粉末和椭球型粉末。
8.根据权利要求7所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述涂层颗粒的粒径为0.1μm-10μm。
9.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述电极(2)旁边设置有进料喷嘴(3)，所述电极(2)外侧接触的底盘上设有绝缘体(5)。
10.根据权利要求1所述的一种还原炉底座，其特征在于，所述底盘(1)为不锈钢底盘或碳钢底盘，所述进料喷嘴(3)为不锈钢喷嘴或碳钢喷嘴，所述电极(2)的铜电极。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青海亚洲硅业半导体有限公司;亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司，未经青海亚洲硅业半导体有限公司;亚洲硅业（青海）股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121485040.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种层状结晶二硅酸钠生产线自动控制系统
- 下一篇：一种图书馆收排书籍装置
