[实用新型]磁控溅射夹持式旋转样品台

说明书

本实用新型提供了一种磁控溅射夹持式旋转样品台，包括有支撑杆，竖向设置；双向棘轮机构，设置在所述支撑杆上方，用于调节纵向角度；连接杆，设置在所述双向棘轮机构上，用于在所述双向棘轮机构的带动下进行纵向角度的调节；旋转电机，设置在所述连接杆下方，用于在镀膜过程对样品台进行旋转；样品台，设置在所述电机底部，用于固定目标基片；以及固定架，可上下调节地设置在所述样品台下方的所述支撑杆上，用于调节靶基距。本实用新型通过双向棘轮机构和连接杆，来实现样品台的纵向角度的调节，通过旋转电机来实现镀膜过程中样品台的旋转，从而保证薄膜的均匀性。通过调节固定架在支撑杆上的位置来实现靶基距的调节。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜领域，具体地说是一种磁控溅射夹持式旋转样品台。

背景技术

磁控溅射作为一种常用的物理气相沉积薄膜制备手段，具有薄膜附着力强、容易掺杂、衬底温度低、沉积速率快、热稳定性优良、纯度高、工艺稳定、重复性好等优点。在现有技术中，根据偏轴角度的不同磁控溅射设备主要划分为两类，一类是偏轴角度为0的磁控溅射镀膜设备，多见于单靶溅射系统，靶材平面与样品台平面始终保持平行，此类磁控溅射的优点在于靶基距调节范围大，可实现低靶基距溅射，保证薄膜沉积效率，但此类溅射系统无法实现多靶共溅射。另一类是偏轴角度可调节的多靶共溅射系统，其优点在于偏轴角度能够调节，可实现单靶溅射和多靶共溅射，但由于要满足多个靶材同时溅射，该系统的靶基距都比较大，无法实现低靶基距溅射，且在单靶溅射过程中靶材和基片间存在一定的偏轴角度。

针对多靶共溅射设备中靶基距较大且存在偏轴角度的技术缺陷，目前尚未提出有效的解决方案。

实用新型内容

本实用新型的目的就是提供一种磁控溅射夹持式旋转样品台，以解决现有技术中靶基距和偏轴角度无法调节的问题。

本实用新型是这样实现的：一种磁控溅射夹持式旋转样品台，包括：

支撑杆，竖向设置；

双向棘轮机构，设置在所述支撑杆上方，用于调节纵向角度；

连接杆，设置在所述双向棘轮机构上，用于在所述双向棘轮机构的带动下进行纵向角度的调节；

旋转电机，设置在所述连接杆下方，用于在镀膜过程对样品台进行旋转；

样品台，设置在所述电机底部，用于固定目标基片；以及

固定架，可上下调节地设置在所述样品台下方的所述支撑杆上，用于调节靶基距。

进一步地，本实用新型可以按如下技术方案实现：

在所述支撑杆上设置有水平刻度，所述支撑杆上端的第一刻度线位置与所述样品台的位置保持水平，所述第一刻度线为零刻度。

在所述双向棘轮机构上设置有角度指针和与所述角度指针对应的旋转刻度。

所述旋转电机上设有电机控制装置，所述电机控制装置包括变速机组、处理器、信号接收器及遥控手柄。

所述固定架的为内圈与靶套外径相配适的环形卡箍，在所述固定架的两端设置有两个供所述支撑杆穿过的连接耳，在所述支撑杆上均布有通过螺钉对所述连接耳进行限位的限位孔。

所述支撑杆和所述双向棘轮机构分别有两个，呈对称分布于所述样品台的两侧；所述连接杆的两端分别连接在所述双向棘轮机构上。

本实用新型通过双向棘轮机构和连接杆，来实现样品台的偏轴角度的调节，通过旋转电机来实现镀膜过程中样品台的旋转，从而保证薄膜的均匀性。通过调节固定架在支撑杆上的位置来实现靶基距的调节，解决了多靶共溅射系统中单靶溅射时存在一定偏轴角度以及靶基距较大导致的薄膜沉积效率低等问题，同时该样品台也可用于部分单靶磁控溅射系统中无法实现的偏轴镀膜问题。

附图说明