[实用新型]一种光刻机及其曝光机构有效

专利信息
申请号: 202121533154.9 申请日: 2021-07-06
公开(公告)号: CN215067718U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 霍锦充 申请(专利权)人: 东莞王氏港建机械有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 代理人: 倪建娣
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 及其 曝光 机构
【权利要求书】:

1.一种光刻机的曝光机构,其特征在于,包括机台(6)、驱动机构(8)、导向部、用于安装掩膜板的上模板(1)和用于承载晶圆的下模板(2);

所述上模板(1)和下模板(2)均用于安装在机台(6)的上侧、且所述上模板(1)为活动面板;

所述驱动机构(8)用于安装在机台(6)的下侧,且用于驱动所述上模板(1)升降,使上模板(1)相对靠近或远离所述下模板(2);

所述导向部用于对上模板(1)的升降导向。

2.根据权利要求1所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述导向部包括用于与上模板(1)连接的导向杆(4),所述下模板(2)上设有供导向杆(4)穿过的导向孔,所述导向杆(4)用于与导向孔滑动配合、且穿过机台(6);

其中,所述驱动机构(8)用于通过所述导向杆(4)驱动上模板(1)升降。

3.根据权利要求2所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述下模板(2)通过支撑柱(3)固定在机台(6)上、且与机台(6)之间具有间隙;

所述导向杆(4)用于经由支撑柱(3)内部穿过所述机台(6)。

4.根据权利要求2或3所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述导向杆(4)上还套设有限位块(5),所述限位块(5)位于上模板(1)与下模板(2)之间,所述限位块(5)用于在上模板(1)下降至极限位置时与下模板(2)相抵,以对上模板(1)的下降高度进行限位。

5.根据权利要求2或3所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述驱动机构(8)包括丝杆螺母结构,丝杆螺母结构具有可转动的丝杆以及套设在丝杆上的螺母座,所述导向杆(4)用于与丝杆螺母结构的螺母座连接,以在丝杆螺母结构的丝杆的带动下升降。

6.根据权利要求5所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述导向杆(4)的数量为四个、且一一对应地设置在上模板(1)的四个角;

其中,四个导向杆(4)分为两组,每组均包含两个导向杆(4),且该两个导向杆(4)的下部通过连接件(7)连接;

所述驱动机构(8)的数量也为两组,且与两个连接件(7)一一对应,各驱动机构(8)的螺母座用于与相应连接件(7)连接,以通过连接件(7)带动相应的导向杆(4)升降。

7.根据权利要求6所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述连接件(7)包括连接板(71)和卡固件(72),所述卡固件(72)具有用于套设在导向杆(4)上的卡固孔(701),所述卡固件(72)的数量为两个、且一一对应地设置在连接板(71)两端的下侧,所述连接板(71)的两端还分别设有供导向杆(4)穿入卡固孔(701)的过孔(702);其中,所述连接件(7)通过连接板(71)与相应驱动机构(8)的螺母座连接。

8.根据权利要求7所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,

所述卡固件(72)的底部还螺纹连接有螺杆(73),所述螺杆(73)用于与导向杆(4)的下端相抵,以对导向杆(4)插入卡固孔(701)的深度进行限位。

9.根据权利要求1至3、6至8中任一项所述的光刻机的曝光机构,其特征在于,还包括两个位置传感器(9),两个所述位置传感器(9)用于对上模板(1)的升降位置进行限位,使上模板(1)在两个位置传感器(9)所限定的范围内升降。

10.一种光刻机,其特征在于,包括权利要求1至9中任一项所述的曝光机构。

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