[实用新型]一种熔体结构有效

专利信息
申请号: 202121534100.4 申请日: 2021-07-07
公开(公告)号: CN215377362U 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 南颖娟;石晓光 申请(专利权)人: 西安中熔电气股份有限公司
主分类号: H01H85/055 分类号: H01H85/055;H01H85/00
代理公司: 西安乾方知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 61259 代理人: 胡思棉
地址: 710077 陕西省西安市雁塔区高新区锦业路*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构
【权利要求书】:

1.一种熔体结构,其特征在于在所述熔体上间隔设置有至少一排狭颈部,所述狭颈部包括至少一个通孔和两个狭颈;在其中一排所述狭颈部一侧开设有一排间隔均匀设置的辅助圆孔。

2.根据权利要求1所述的熔体结构,其特征在于相邻两所述辅助圆孔圆心距离及所述辅助圆孔的内径分别小于所述通孔沿所述熔体宽度方向的宽度。

3.根据权利要求1所述的熔体结构,其特征在于所述辅助圆孔的圆心至所述狭颈部通孔边缘的最近距离大于两倍的狭颈宽度。

4.根据权利要求1所述的熔体结构,其特征在于在所述辅助圆孔与所述狭颈部的通孔之间的熔体表面涂布有一条贯通所述熔体宽度的低熔点材料带层;所述低熔点材料带层的熔点低于所述熔体材质熔点。

5.根据权利要求1所述的熔体结构,其特征在于所述狭颈部的通孔为圆形孔、椭圆形孔或多边形孔。

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