[实用新型]一种4,4`,4``-三叔丁基-2,2`:6`,2``-三联吡啶的后处理装置

权利要求书

1.一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，包括混合罐，混合罐内设有第一混合区和第二混合区，第一混合区顶部设有第一进气口和第一出气口，第一混合区底部设有第一进液口，第二混合区顶部设有第二进气口和第二出气口，第二混合区底部设有第二进液口，混合罐连接萃取罐，萃取罐包括分层区和分相区，分层区顶部设有第三进液口，分层区底部设有第一出液口，第一进液口和第二进液口均连接第三进液口，连接管路上设有电磁阀，第三进液口下方设有布流板，布流板通过连接杆连接分层区顶部，分层区与分相区间设有挡板，分相区内设有多个折流板，分相区底部折流板间均设有第二出液口。

2.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述第一混合区内设有多个第一扰流板，所述第一扰流板上设有多个第一扰流孔，所述第一混合区内从上至下的第一扰流板上第一扰流孔的直径逐渐减小；所述第二混合区内设有多个第二扰流板，所述第二扰流板上设有多个第二扰流孔，所述第二混合区内从上至下的第二扰流板上第二扰流孔的直径逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述布流板为球心在下的球面结构，所述布流板边缘向上设有缓冲堰，所述布流板或缓冲堰与分层区的侧壁和挡板间具有一定的间隙。

4.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述挡板高度与布流板底边缘高度相同或挡板高度高于布流板底边缘高度。

5.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述折流板的高度低于挡板的高度，所述折流板上部向分层区弯折，所述折流板的高度从分层区至分相区方向越来越低。

6.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述第一进液口连接反应液罐和萃取溶剂罐，所述连接的管路上设有增压泵；所述第一出液口连接增压泵，所述第二出液口间相互连接，所述第一出液口与相邻的第二出液口连接。

7.根据权利要求1所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述第一进气口和第二进气口连接氮气瓶，所述第一出气口和第二出气口连接真空泵。

8.根据权利要求6或7所述的一种4,4',4''-三叔丁基-2,2':6',2''-三联吡啶的后处理装置，其特征在于，所述连接的管路上均分别设有电磁阀。