[实用新型]一种金刚线切割单晶硅片脱胶预清洗装置

说明书

本实用新型公开的属于单晶硅片清洗技术领域，具体为一种金刚线切割单晶硅片脱胶预清洗装置，包括底板，所述底板的上侧壁固定设置有支架，所述支架的内部固定设置有水槽，所述水槽的上端固定设置有支撑板，所述支撑板的上端固定设置有均匀排布的竖杆，所述竖杆的侧壁固定设置有均匀排布的U型板，所述U型板的内部卡接设置有单晶硅片，所述支架的上端固定设置有水箱，所述水箱的下侧壁固定设置有出水管，所述出水管管壁的下端转动设置有旋转管，所述旋转管的内壁开设有环形槽，所述出水管的外壁固定设置有对称的限位块，可以对单晶硅片进行全面清理，有效提高了清洗的质量，便于更好的对硅粉颗粒进行收集。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片清洗技术领域，具体为一种金刚线切割单晶硅片脱胶预清洗装置。

背景技术

目前，太阳能单晶硅片切割主要采用游离切割技术，游离切割技术工艺效率低且成本较高，并造成严重的环境污染，随着太阳能单晶切割技术的快速发展，新型的金刚石线切割技术应运而生，该技术采用包埋在钢线表面的金刚石，在切割液的配合下实现切割，其切割速度是传统游离切割技术的2～3倍，切割后产生的硅粉予以回收使用，切割液清洁环保。

在单晶硅片切片以后，往往需要使用清洗装置对单晶硅片进行清洗，目前的清洗装置清洗效率较差，对单晶硅片清洗不够全面，从而在清洗以后，单晶硅片的表面还是会附着少量的硅粉，影响硅粉的收集。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种金刚线切割单晶硅片脱胶预清洗装置，以解决上述背景技术中提出的目前的清洗装置在对单晶硅片进行清洗时，清洗效率较低，且清洗不够全面，影响硅粉收集的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种金刚线切割单晶硅片脱胶预清洗装置，包括底板，所述底板的上侧壁固定设置有支架，所述支架的内部固定设置有水槽，所述水槽的上端固定设置有支撑板，所述支撑板的上端固定设置有均匀排布的竖杆，所述竖杆的侧壁固定设置有均匀排布的U型板，所述U型板的内部卡接设置有单晶硅片，所述支架的上端固定设置有水箱，所述水箱的下侧壁固定设置有出水管，所述出水管管壁的下端转动设置有旋转管，所述旋转管的内壁开设有环形槽，所述出水管的外壁固定设置有对称的限位块，两个所述限位块均与所述环形槽滑动连接，所述旋转管的下端固定设置有对称的连接管，两个所述连接管的侧壁固定设置有均匀排布的喷头，所述旋转管的外壁固定设置有第一皮带轮，所述支架的左侧壁固定设置有机箱，所述机箱的内部固定设置有电机，所述电机的输出端固定设置有转杆，所述转杆杆壁的上端固定设置有第二皮带轮，所述第一皮带轮通过皮带与所述第二皮带轮转动连接。

优选的，所述水槽内壁的上端固定设置有对称的固定块，所述水槽的上端横向设置有过滤网，所述过滤网的两端均固定设置有安装板，两个所述安装板均通过螺栓与所述固定块固定连接。

优选的，所述水槽的内部固定设置有水泵，所述水泵的右端固定设置有回流管，所述回流管的上端与所述水箱的右侧壁固定连接。

优选的，所述U型板的内部固定设置有橡胶防护垫。

优选的，均匀排布的所述喷头呈角度对称设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

通过出水管、旋转管、第一皮带轮、第二皮带轮、连接管、喷头、电机和转杆的共同配合，便于电机带动第二皮带轮转动，第二皮带轮带动第一皮带轮转动，第一皮带轮带动连接管和喷头旋转，可以对单晶硅片进行全面清理，有效提高了清洗的质量，便于更好的对硅粉颗粒进行收集。

附图说明

图1为本实用新型正面结构示意图；

图2为图1中A部分的放大结构示意图；

图3为图1中B部分的放大结构示意图；

图4为图1中C部分的放大结构示意图。