[实用新型]一种RF电极装置有效

专利信息
申请号: 202121604468.3 申请日: 2021-07-15
公开(公告)号: CN215008138U 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 吴本安;毛中犁 申请(专利权)人: 深圳市易卜光电有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;C23C14/02
代理公司: 深圳树贤专利代理事务所(普通合伙) 44705 代理人: 陈晶晶
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 rf 电极 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种RF电极装置,既可以在高真空中使残留气体电离,并且可以在高真空中自持放电,不需要另外充工作气体,还能够使离子的轰击效率大大提高,包括位于真空室内、并作为电极的底座,所述底座上设有由铝丝材质构成的螺旋管,且底座中心设有用于夹持铝丝的绝缘固定器,底座中心设有定位孔;所述螺旋管的上部支撑有不锈钢平板,螺旋管下端设有连接端,所述连接端的一端抵接螺旋管,连接端的另一端连接电源电源连接线。

技术领域

本实用新型涉及一种RF电极装置技术领域,尤其涉及一种RF电极装置。

背景技术

在真空镀膜领域,镀膜前的离子清洗对膜层附着力的影响起着决定性的作用,而RF(radio frequency)的电极设计又是重中之重,它决定着RF的实际使用效果,若电极设计不好,RF就会没有使用价值。

现有技术中,RF等离子清洗方法,是诸多清洗方法之一。它的电极设计多种多样,但均效果欠佳。如电极设置在真空室上部,跟真空室底座形成电极对的设计方式,由于极间距较远,必须在较低的真空度下,通工作气体才能启辉。并且,随着放电时间的延长,真空度增高时,阴极暗区接触到阳极,放电不能持续。并且轰击效率低,产生的轰击效果不明显;还有一种用直径6mm的铝丝或者铜丝从真空室中升起的方式,并在到达工件架的位置,沿着(贴近)真空室内壁围成圆圈,用绝缘座固定,不让其晃动,避免短路,这种方法比前一种方法更难启辉,并且持续辉光放电的时间更短,效率更差。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的之一在于提供一种RF电极装置,既可以在高真空中使残留气体电离,并且可以在高真空中自持放电,不需要另外充工作气体,还能够使离子的轰击效率大大提高。

本实用新型的目的之一采用如下技术方案实现:一种RF电极装置,包括位于真空室内、并作为电极的底座,所述底座上设有由铝丝材质构成的螺旋管,且底座中心设有用于夹持铝丝的绝缘固定器,底座中心设有定位孔;

所述螺旋管的上部支撑有不锈钢平板,螺旋管下端设有连接端,所述连接端的一端抵接螺旋管,连接端的另一端连接有电源连接线。

进一步的,所述螺旋管上设有用于固定不锈钢板的定位件。

进一步的,所述螺旋管的底部设有与自身同轴设置的连接段;

所述绝缘固定器的轴向截面呈“T”字型结构,所述连接段与绝缘固定器固定连接,绝缘固定器的下端嵌设于定位孔内。

进一步的,所述不锈钢板由304材料构成,且不锈钢板的厚度为0.8mm。

进一步的,所述绝缘固定器由特氟龙材料构成。

进一步的,所述螺旋管的直径为6mm。

相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:

这样的设计,在生产时,可以在真空度达到5E-Torr或5E-Pa的高真空条件下,不需要冲任何工作气体,在打开电源和RF调配器的情况下,只需用电子枪对准膜料作“预熔”操作,就可以顺利启辉。RF一旦启辉,真空室壁的残留气体就会被等离子体中的离子轰击出来,使真空度自动下降,刚好够维持持续放电的气压,而不需要另外充工作气体。并且,由于电极距离底座很近,电极与底座形成的两极对启辉的气压要求降低,不需要很低的真空度就能启辉,同时,工作过程中,随着残留气体的逐步减少,真空度逐渐变高时,放电的阴极暗区,由近底座的方向自动变更到另一侧,跟真空室上端的工件架和真空室壁形成更远的阴极暗区,阴极暗区的极限距离由此变大,所以即使在高真空状态下,也能自持放电。

此外,由于电极设计成一块大板,放电面积较大,因此能够大大提高放电效率,轰击效果明显,清洗后对膜层附着力提高显著。

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