[实用新型]一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置

权利要求书

1.一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，包括立架(1)，其特征在于：所述立架(1)内安装有供液罐(2)，所述立架(1)的顶部连接有工作台(3)，所述工作台(3)的顶部右侧连接有液压杆(4)，所述液压杆(4)的顶部活动端连接有升降座(5)，所述升降座(5)的顶部右侧连接有驱动电机(6)，所述驱动电机(6)的左侧动力输出端连接有锥齿轮(7)，所述升降座(5)的中部转动连接有竖轴(8)，所述竖轴(8)的外壁上部连接有锥齿圈(9)，所述锥齿圈(9)啮合连接锥齿轮(7)，所述竖轴(8)的轴心处开设有圆通孔(10)，所述竖轴(8)的下端连接有给液座(11)，所述升降座(5)的顶部左侧连接有固定架(12)，所述固定架(12)的上端连接有L型管(13)，所述L型管(13)横部连接有输送软管(14)，所述输送软管(14)伸入供液罐(2)的一端连接有抽液泵(15)，所述L型管(13)竖部转动连接竖轴(8)上端。

2.根据权利要求1所述的一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其特征在于：所述工作台(3)的顶部连接有液槽(16)，所述液槽(16)内设有研磨台(17)，所述给液座(11)的底部连接有研磨块(18)，所述给液座(11)内开设有导流腔(19)，所述导流腔(19)的底部开设有多个出液孔(20)，所述出液孔(20)均布于研磨块(18)四周，所述研磨台(17)位于研磨块(18)正下方。

3.根据权利要求2所述的一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其特征在于：所述立架(1)内安装有过滤箱(21)，所述过滤箱(21)的内腔中部连接有滤芯(22)，所述过滤箱(21)顶部与液槽(16)底部之间连通有集液管(23)，所述过滤箱(21)外壁底部与供液罐(2)之间连通有回流管(24)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其特征在于：所述L型管(13)竖端与圆通孔(10)之间安装有密封轴承。

5.根据权利要求1所述的一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，其特征在于：所述工作台(3)的外壁连接有PLC控制器(25)，所述PLC控制器电性连接液压杆(4)、驱动电机(6)和抽液泵(15)。