[实用新型]一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置

说明书

本实用新型公布了一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，包括立架，立架内安装有供液罐，工作台的顶部右侧连接有液压杆，液压杆的顶部活动端连接有升降座，升降座的顶部右侧连接有驱动电机，驱动电机的左侧动力输出端连接有锥齿轮，升降座的中部转动连接有竖轴，竖轴的外壁上部连接有锥齿圈，竖轴的轴心处开设有圆通孔，竖轴的下端连接有给液座，升降座的顶部左侧连接有固定架，固定架的上端连接有L型管，L型管横部连接有输送软管，输送软管伸入供液罐的一端连接有抽液泵，L型管竖部转动连接竖轴上端；本实用新型结构设计合理，便于进行研磨操作，能够对工件进行有效降温和润滑，更加节能环保。

技术领域

本实用新型涉及研磨设备技术领域，尤其涉及一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置。

背景技术

研磨是利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。

为了保障半导体研磨设备的工作效果，在进行研磨操作时需要注入研磨液，现有的研磨液供给设备大多输送方位固定，在使用时导致研磨分散不均匀，不能够使研磨块之间得到充分降温，影响工作效果，为此，我们提出了一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，以克服现有技术中存在的技术问题。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型提供如下技术方案：

一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置，包括立架，所述立架内安装有供液罐，所述立架的顶部连接有工作台，所述工作台的顶部右侧连接有液压杆，所述液压杆的顶部活动端连接有升降座，所述升降座的顶部右侧连接有驱动电机，所述驱动电机的左侧动力输出端连接有锥齿轮，所述升降座的中部转动连接有竖轴，所述竖轴的外壁上部连接有锥齿圈，所述锥齿圈啮合连接锥齿轮，所述竖轴的轴心处开设有圆通孔，所述竖轴的下端连接有给液座，所述升降座的顶部左侧连接有固定架，所述固定架的上端连接有L型管，所述L型管横部连接有输送软管，所述输送软管伸入供液罐的一端连接有抽液泵，所述L型管竖部转动连接竖轴上端。

优选的，一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置中，所述工作台的顶部连接有液槽，所述液槽内设有研磨台，所述给液座的底部连接有研磨块，所述给液座内开设有导流腔，所述导流腔的底部开设有多个出液孔，所述出液孔均布于研磨块四周，所述研磨台位于研磨块正下方。

优选的，一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置中，所述立架内安装有过滤箱，所述过滤箱的内腔中部连接有滤芯，所述过滤箱顶部与液槽底部之间连通有集液管，所述过滤箱外壁底部与供液罐之间连通有回流管。

优选的，一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置中，所述L型管竖端与圆通孔之间安装有密封轴承。

优选的，一种半导体研磨设备的研磨液供给输送装置中，所述工作台的外壁连接有PLC控制器，所述PLC控制器电性连接液压杆、驱动电机和抽液泵。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型结构设计合理，通过供液罐存储研磨液，通过液压杆带动升降座下降，通过驱动电机带动锥齿轮转动，锥齿轮啮合传动锥齿圈，使得竖轴带动给液座转动，研磨块随给液座同步转动，便于进行研磨操作，利用抽液泵抽取研磨液，研磨液能够沿圆通孔进入导流腔，通过出液孔输送至研磨块侧边，能够对工件进行有效降温和润滑，液槽内沉积的研磨液能够沿集液管进入过滤箱，利用滤芯进行过滤处理，过滤后的研磨液沿回流管汇入供液罐循环使用，更加节能环保。

附图说明