[实用新型]一种HMDS喷涂结构及装置

说明书

本实用新型提供了一种HMDS喷涂结构及装置，该喷涂结构包括：喷嘴主体，喷嘴主体的一端为输入端，喷嘴主体的另一端为输出端，输入端与输出端导通，输入端用于连接进气通道，输出端和输入端之间设有喷洒腔，喷洒腔的直径小于进气通道的直径。本实用新型通过在输出端和输入端之间设置喷洒腔，且喷洒腔的直径小于进气通道的直径，当进气通道内的气体进入喷洒腔内时，由于喷洒腔的体积较大，从而起到一定的缓冲作用，当气体从输出端喷出时，气体流通相对稳定，从而使喷涂时气体流通更加均匀，且结构简单，便于大批量的生产。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种HMDS喷涂结构及装置。

背景技术

为了保证光刻胶在晶圆处理过程中更好的完成图形转移，需要在晶圆上先进行喷涂HMDS处理的工艺，将晶圆表面亲水性的OH置换为疏水性的OSi(CH₃)₃，以实现晶圆表面接触角达到60°以上，进而保证光刻胶与晶圆表面更好的粘结。

但是，目前喷涂HMDS的设备中，由于喷嘴结构的问题，导致喷涂HMDS时的材料浪费，以及喷涂不均匀，从而影响光刻胶与晶圆表面的粘结。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种HMDS喷涂结构及装置，避免了喷涂材料的浪费，使喷涂时表面更加均匀。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种HMDS喷涂结构，该喷涂结构包括：喷嘴主体，喷嘴主体的一端为输入端，喷嘴主体的另一端为输出端，输入端与输出端导通，输入端用于连接进气通道，输出端和输入端之间设有喷洒腔，喷洒腔的直径小于进气通道的直径。

本实用新型提供的实施例一种HMDS喷涂结构的有益效果在于：通过在输出端和输入端之间设置喷洒腔，且喷洒腔的直径小于进气通道的直径，当进气通道内的气体进入喷洒腔内时，由于喷洒腔的体积较大，从而起到一定的缓冲作用，当气体从输出端喷出时，气体流通相对稳定，从而使喷涂时气体流通更加均匀，且结构简单，便于大批量的生产。

在一种可能的实现中，输出端上间隔设有若干第一流通孔，若干第一流通孔沿喷洒腔的轴线周向均匀设置，且第一流通孔的轴线与喷洒腔的轴线角度为35°-50°。其有益效果在于：通过沿喷洒腔的轴线周向均匀设置第一流通孔，且第一流通孔的轴线与喷洒腔的轴线角度为35°-50°，便于均匀的完成喷涂工作。

在一种可能的实现中，输出端上还设有第二流通孔，第二流通孔对应喷洒腔的轴线设置。其有益效果在于：进一步保障了喷涂时气体均匀的流出。

在一种可能的实现中，第二流通孔具有前端孔和后端孔，后端孔与喷洒腔导通，且位于前端孔和喷洒腔之间，前端孔的径向尺寸沿远离后端孔的方向逐渐增大。其有益效果在于：通过设置类似于喇叭口的前端孔，且结合周向设置的第一流通孔进一步保证了喷嘴的均匀喷涂。

在一种可能的实现中，输入端和输出端之间为过渡部，过渡部的径向尺寸大于输入端和输出端的径向尺寸。其有益效果在于：该结构便于实现喷嘴主体实现嵌入式安装，保证产品的完整性。

在一种可能的实现中，过渡部靠近输出端的侧面设有安装结构，安装结构用于安装喷嘴主体。其有益效果在于：实现了喷嘴结构的固定安装。

在一种可能的实现中，输入端至过渡部之间的径向尺寸逐渐增大，且输入端与进气通道抵接。其有益效果在于：输入端与进气通道之间连接导通的方式简单。

在一种可能的实现中，安装结构为安装孔。其有益效果在于：固定方式简单。

在第二方面，本发明实施例提供一种HMDS喷涂装置，包括上述HMDS喷涂结构和工艺处理腔体，其中，HMDS喷涂结构设置于工艺处理腔体内。