[实用新型]一种精密的半导体光刻设备

权利要求书

1.一种精密的半导体光刻设备，包括机台(1)、转动机构、升降机构和激光刻头(9)，所述机台(1)上表面中心开有储物槽(2)，所述转动机构位于储物槽(2)内，所述升降机构位于机台(1)上方，所述激光刻头(9)安装于升降机构内侧，其特征在于：

所述机台(1)上表面外围固定有若干个呈环形分布的定位盘(10)，每个所述定位盘(10)靠近机台(1)中心的一侧内壁均固定有固定夹块(11)，且每个所述定位盘(10)靠近机台(1)中心的一侧外壁均开有螺孔，所述螺孔与定位盘(10)内部相通，且所述螺孔内螺纹连接有螺杆(17)，所述螺杆(17)内端伸入定位盘(10)内，且所述螺杆(17)内端均焊接有活动夹块(18)；

所述定位盘(10)底部中央均开有与其相通的通孔(12)，所述通孔(12)呈上宽下窄状，且所述通孔(12)内放置有移动板(13)，所述移动板(13)下表面中心均固定有推杆(16)，所述机台(1)上表面开有若干个与推杆(16)一一对应的凹槽(14)，所述凹槽(14)内均固定有弹簧(15)，所述推杆(16)下端与相近的所述弹簧(15)上端固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述转动机构包括电机(3)和转轴(4)，所述电机(3)固定于储物槽(2)槽底，所述转轴(4)下端与电机(3)输出端固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述机台(1)上表面中央开有圆环槽(5)，所述圆环槽(5)位于储物槽(2)外侧，且所述圆环槽(5)内转动连接有转盘(6)，所述转盘(6)上端延伸出圆环槽(5)，所述转轴(4)上端固定于转盘(6)内壁顶部中心。

4.根据权利要求3所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述升降机构包括电动升降杆(7)和支板(8)，所述电动升降杆(7)下端与转盘(6)上端固定连接，所述支板(8)水平安装于电动升降杆(7)上端，所述激光刻头(9)上端固定于支板(8)底部右方，且所述激光刻头(9)位于最右端的所述定位盘(10)正上方。

5.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述机台(1)右侧安装有PLC控制器(19)，所述PLC控制器(19)与电机(3)电性连接。

6.根据权利要求1所述的一种精密的半导体光刻设备，其特征在于：所述螺杆(17)外端均螺纹连接有螺帽，所述螺帽对螺杆(17)起到定位作用。