[实用新型]一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具

说明书

本实用新型提供了一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具，所述用于旋转靶材氦泄漏检测的治具包括依次连接的法兰、连接管和转接头；所述法兰的平面上设置有压力表；所述法兰的结构与旋转靶材的端头相适应；所述转接头的结构与氦泄漏检测设备的出气口相适应。本实用新型提供的治具便于连接氦泄漏设备与靶材端头，提升了靶材焊接缺陷检测的准确性和检测效率。

技术领域

本实用新型属于溅射靶材技术领域，涉及一种治具，尤其涉及一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具。

背景技术

磁控溅射镀膜是目前镀膜行业应用广泛的镀膜沉积工艺。溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子枪氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。

为了提高靶材的利用率，人们逐渐尝试将靶材做成圆筒型，筒内装有静止不动的磁体。在溅射过程中，管靶以一定的速度旋转，故被称为旋转靶材。由于转动的管靶和静止不动的磁体之间发生相对运动，使得整个管靶表面均匀地发生溅射，且管靶的利用率高达70％以上。相较于平面靶材，旋转靶材具有利用率高、镀膜连续性好、镀膜成分均匀等优点，是更为理想的溅射靶材，市场需求量巨大。随着镀膜行业从使用平面靶材向使用旋转靶材转变，旋转靶材逐渐成为磁控溅射的标准选材。

由于旋转靶材在制造过程中需要经过焊接程序，且焊接部位的密封性对于靶材的正常使用至关重要。人们普遍采用氦泄漏设备对旋转靶材的端头进行密封性检验，但是设备与端头的连接处存在形状和尺寸不匹配的问题，需要中间过渡部件将两者相连接。

因此，如何提供一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具，便于连接氦泄漏设备与靶材端头，提升靶材焊接缺陷检测的准确性和检测效率，成为了目前本领域技术人员迫切需要解决的问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具，所述治具便于连接氦泄漏设备与靶材端头，提升了靶材焊接缺陷检测的准确性和检测效率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供一种用于旋转靶材氦泄漏检测的治具，所述用于旋转靶材氦泄漏检测的治具包括依次连接的法兰、连接管和转接头。

所述法兰的平面上设置有压力表。

所述法兰的结构与旋转靶材的端头相适应。

所述转接头的结构与氦泄漏检测设备的出气口相适应。

本实用新型通过在治具上设置与旋转靶材的端头相适应的法兰和与氦泄漏检测设备的出气口相适应的转接头，实现了旋转靶材的端头与氦泄漏检测设备的出气口间接相连，解决了两者形状和尺寸不适配的问题，提升了靶材焊接缺陷检测的准确性和检测效率，且所述治具结构简单，加工方便，成本低廉。

本实用新型中，所述压力表的设置便于实时监控旋转靶材内部的压力变化，当出现明显的氦气泄漏时可通过压力表数值及时得知并采取必要措施终止检测，以避免氦气的不必要浪费。

优选地，所述法兰的平面上绕圆心均匀分布有4-8个螺栓孔，例如可以是4 个、5个、6个、7个或8个。

本实用新型中，所述螺栓孔用于法兰和靶材端头之间的螺栓连接，所述螺栓孔的均匀分布保证了两者连接的稳定性和密封性。

优选地，所述螺栓孔与圆心的距离为法兰直径的1/2-4/5，例如可以是1/2、 3/5、7/10或4/5，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

优选地，所述法兰与旋转靶材的端头连接处开设有密封槽。

本实用新型中，所述密封槽用于放置橡胶圈，提升了法兰和靶材端头之间连接的密封性，防止了两者在装卸过程中的过度磨损。