[实用新型]一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构有效
| 申请号： | 202121729908.8 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN215288974U | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 赖奂汶;郭崇武;陈媚 | 申请（专利权）人： | 广州超邦化工有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C25D3/56;C25D5/48;C23C22/00 |
| 代理公司： | 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 汪丽丽 |
| 地址： | 510460 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 合金 镀层 硅烷 钝化 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，其特征在于：包括铜合金基体、和在所述铜合金基体上从内到外依次制备的镉钴合金镀层和硅烷无铬钝化层；
所述硅烷无铬钝化层是采用溶剂型硅烷钝化剂制备的钝化层；
所述硅烷无铬钝化层的厚度为0.6～1.5μm。
2.如权利要求1所述的镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，其特征在于：所述镉钴合金镀层是采用氯化钾镉钴合金电镀工艺制备的。
3.如权利要求1所述的镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，其特征在于：所述镉钴合金镀层的厚度为7～27μm。
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