[实用新型]一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构

说明书

本实用新型公开了一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，包括铜合金基体、和在所述铜合金基体上从内到外依次制备的镉钴合金镀层、和硅烷无铬钝化层。本实用新型公开的镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，具有优异的耐腐蚀性能。

技术领域

本实用新型属于金属电镀领域，具体涉及一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构。

背景技术

授权公告号为“CN 110117803 B”的中国发明专利《一种氯化钾镉钴合金镀液、其制备方法和电镀工艺》公开了一种氯化钾镉钴合金电镀工艺，镀层具有优异的耐蚀性，该技术具有较好的市场前景。

所发明的镉钴合金镀层采用六价铬和三价铬钝化工艺钝化，六价铬钝化存在高污染的问题，已被禁用，三价铬钝化液中含有钴离子，也被列入了禁用的范围，因此，开发镉钴合金镀层的无铬钝化技术是现代电镀技术的发展方向。

实用新型内容

为了解决镉钴合金镀层六价铬和三价铬钝化的污染问题，本实用新型提供了一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构。为了达到上述目的本实用新型采用如下技术方案：

一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，包括铜合金基体、和在所述铜合金基体上从内到外依次制备的镉钴合金镀层和硅烷无铬钝化层；

所述硅烷无铬钝化层是采用溶剂型硅烷钝化剂制备的钝化层；

所述硅烷无铬钝化层的厚度为0.6～1.5μm。

在其中一些实施例中，所述镉钴合金镀层是采用氯化钾镉钴合金电镀工艺制备的。

在其中一些实施例中，所述镉钴合金镀层的厚度为7～27μm。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型公开的镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，采用硅烷钝化剂代替现行的六价铬钝化剂和三价铬钝化剂，所述钝化剂不含重金属，符合我国产业政策的要求；

2、所述的镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，所制备的硅烷无铬钝化层具有自修复性。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型的不当限定，在附图中：

图1是本实用新型实施例1和实施例2的镀层结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型，在此本实用新型的示意性实施例以及说明用来解释本实用新型，但并不作为对本实用新型的限定。

一种镉钴合金镀层硅烷无铬钝化的镀层结构，包括铜合金基体、和在所述铜合金基体上从内到外依次制备的镉钴合金镀层和硅烷无铬钝化层。

所述镉钴合金镀层采用广州超邦化工有限公司开发的氯化钾镉钴合金电镀工艺制备，镀层厚度为7～27μm。

优选的，所述镉钴合金镀层采用氯化钾镉钴合金挂镀工艺制备：氯化镉25～35g/L，氯化钴5～10g/L，NCC-617配位剂100～150g/L，氯化钾140～180g/L，NCC-617光亮剂1.5～2.5mL/L，NCC-617辅助剂25～35mL/L，pH范围6.5～7.5，工作温度20℃～35℃，阴极电流密度0.5～1.5A/dm²，阴极移动2～4m/min。

优选的，所述镉钴合金镀层采用氯化钾镉钴合金滚镀工艺制备：氯化镉20～30g/L，氯化钴4～7g/L，NCC-617配位剂90～130g/L，氯化钾140～180g/L，NCC-617光亮剂1.5～2.5mL/L，NCC-617辅助剂25～35mL/L，pH范围6.5～7.5，工作温度15℃～35℃，镀槽电压6～8V，滚筒转速6～10r/min。