[实用新型]一种超微量检测遮光装置有效

专利信息
申请号: 202121751123.0 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN215263118U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 黄明贤;李雅纯;黄明文 申请(专利权)人: 重庆凯奥生物技术有限公司
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G01N21/01
代理公司: 重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙) 50213 代理人: 郑雪红
地址: 402760 重庆市璧山区*** 国省代码: 重庆;50
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 微量 检测 遮光 装置
【说明书】:

实用新型属于超微量检测设备技术领域,具体公开了一种超微量检测遮光装置,安装在超微量检测台上,所述超微量检测台包括上检测臂和下检测臂,所述下检测臂水平固定,所述上检测臂采用销轴铰接在下检测臂上,所述下检测臂上设有定位方孔、限位孔和安装孔,包括密封圈组,所述密封圈组包括第一密封圈和第二密封圈,第一密封圈固定在下检测臂上,定位方孔、限位孔以及安装孔均位于第一密封圈内,第二密封圈固定在上检测臂上,且上检测臂与下检测臂靠拢后,第二密封圈位于第一密封圈的外部。采用本实用新型的方案,外部光被阻挡,不再对比色皿的检测造成影响。

技术领域

本实用新型属于超微量检测设备技术领域,具体涉及了一种超微量检测遮光装置。

背景技术

微量分光光度计是利用微量液体的表面张力在两个距离很近的光纤基座之间形成光通路,两个光纤基座之间的距离就是光程;由朗伯——比尔定律A=Kbc,当吸光度A不变时,浓度c与光程b成反比,而仪器之间能测的吸光度范围差别不大,当光程b很小时,仪器能直接测量高浓度样品。

目前,市场上出现的超微量分光光度计,一般包括固定的下检测臂以及铰接在下检测臂上的上检测臂,下检测臂上设有放置比色皿的定位方孔、安装限位座的限位孔,以及安装光线基座的安装孔,在上检测臂正对下检测臂一侧的端面上设有与限位孔对应的限位槽以及与安装孔对应的通过孔,由于在检测时需要上检测臂与下检测臂之间具有一定间隙,因此限位座的顶部从限位孔凸出,但这就使得外部光对比色皿检测时造成影响,基于此本申请提供了一种超微量检测遮光装置。

实用新型内容

针对现有技术中所存在的不足,本实用新型提供了一种超微量检测遮光装置,以解决目前上检测臂与下检测臂之间具有一定间隙,使得外部光对比色皿检测时造成影响。

为实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案:

一种超微量检测遮光装置,安装在超微量检测台上,所述超微量检测台包括上检测臂和下检测臂,所述下检测臂水平固定,所述上检测臂采用销轴铰接在下检测臂上,所述下检测臂上设有定位方孔、限位孔和安装孔,包括密封圈组,所述密封圈组包括第一密封圈和第二密封圈,第一密封圈固定在下检测臂上,定位方孔、限位孔以及安装孔均位于第一密封圈内,第二密封圈固定在上检测臂上,且上检测臂与下检测臂靠拢后,第二密封圈位于第一密封圈的外部。

相比于现有技术,本实用新型具有如下有益效果:

1、采用本方案当上检测臂与下检测臂靠拢后,由于第二密封圈位于第一密封圈的外部,这样使得上检测臂与下检测臂之间的缝隙被阻挡,且由于定位方孔、限位孔和安装孔均位于第一密封圈内部,因此外部光被阻挡,不再对比色皿的检测造成影响。

2、另外本方案中密封圈组采用第一密封圈与第二密封圈相套的结构,使得对外部光遮挡的效果进一步提高,从而也进一步提高超微量检测的准确性。

进一步,所述限位孔用于安装限位座,限位座的顶部露出限位孔,第一密封圈与第二限位圈的高度均不超过限位座露出限位孔的高度。

有益效果:这样当上检测臂与下检测臂靠拢后,第一密封圈与第二密封圈不会被挤压,从而防止出现不可逆的形变。

进一步,所述第一密封圈与第二密封圈均为长方形结构,长方形结构的短边平行于销轴,长边垂直于销轴。

有益效果:这样设置,使得第一密封圈与第二密封圈更好安装。

进一步,当上检测臂与下检测臂合拢后,第一密封圈的长边与第二密封圈对应的长边之间的缝隙宽度不超过2mm。

有益效果:这样进一步防止外部光通过第一密封圈与第二密封圈之间的间隙折射进入并干扰检测。

进一步,当上检测臂与下检测臂合拢后,第一密封圈的短边与第二密封圈对应的短边之间的缝隙宽度不小于第二密封圈的高度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆凯奥生物技术有限公司,未经重庆凯奥生物技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121751123.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top