[实用新型]一种镀膜用载具及镀膜设备有效
申请号: | 202121754978.9 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN216404512U | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 陶利松;程俊华 | 申请(专利权)人: | 杭州乾智新材料研究有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/50 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 黎双华 |
地址: | 311258 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀膜 用载具 设备 | ||
本实用新型属于镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜用载具及镀膜设备;其中,镀膜用载具,包括:承载座,用于承载待镀膜的基材;掩膜板,具有一个或多个镀膜口;掩膜板盖设于基材之上并固定安装于承载座,以通过镀膜口对基材的目标位置进行镀膜;其中,掩膜板具有提拉部;通过机械提拉或磁力作用于掩膜板的提拉部,以使掩膜板脱离基材。本实用新型的镀膜用载具,在掩膜板上设计提拉部,放置或者移开掩膜板时,手指或机械手或利用磁力作用可抓取提拉部,可避免触碰基材,进而避免基材表面被划伤,避免镀膜产品报废。
技术领域
本实用新型属于镀膜技术领域,尤其涉及一种镀膜用载具及镀膜设备。
背景技术
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并结合电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简而言之,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体等)上凝固并沉积的方法。
真空镀膜能在金属、半导体、绝缘体、塑料、纸张、织物等基体表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等得到薄膜,使基体表面根据需要具备多种性能,例如抗辐射、抗腐蚀、抗磨损、改变光学性能等,其应用范围极广,如:装饰,工模具行业;太阳能光伏光热行业;建筑汽车玻璃大面积镀膜行业;平面显示行业;光学,光通信,光存储行业等都需要真空镀膜。高精度的真空镀膜在精密光学、眼镜光学、汽车车灯及内外饰、食品包装、薄膜电容器、显示器及汽车和建筑玻璃等行业的发展做出了巨大的贡献。例如,精密光学中,滤光片作为指纹识别模组的噪音滤除零件,不可或缺,窄带滤光片是3D摄像头发射端和接收端的关键之一,对红外摄像头的成像起着关键的作用。低角度偏移技术是产品的主要指标和要求,也是难点。这些都要依赖于真空镀膜技术。
在真空蒸发或溅射等镀膜技术中,通常需要用到镀膜夹具将待镀膜产品固定于工件架或工件盘上进行成膜。当需要在基材表面部分位置进行镀膜时,在镀膜设备进行镀膜操作前,需要将掩膜板遮盖基材表面上,例如,公开号为CN205856592U的专利文献公开的掩膜板和蒸镀装置。然而,在放置或移取掩膜板的过程中,机械手或手指可能触碰到基材,导致基材表面划伤,尤其是手指指甲或机械手接触点,而这种划伤是镀膜产品无法接受的损伤,严重的会导致镀膜产品报废。
实用新型内容
基于现有技术中存在的上述缺点和不足,本实用新型的目的之一是至少解决现有技术中存在的上述问题之一或多个,换言之,本实用新型的目的之一是提供满足前述需求之一或多个的一种镀膜用载具及镀膜设备,旨在放置或移取掩膜板的过程中,手指或机械手无法触碰到基材,避免镀膜产品因为划伤而报废。
为实现上述实用新型目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种镀膜用载具,包括:
承载座,用于承载待镀膜的基材;
掩膜板,具有一个或多个镀膜口;掩膜板盖设于基材之上并固定安装于承载座,以通过镀膜口对基材的目标位置进行镀膜;
其中,掩膜板具有提拉部;通过机械提拉或磁力作用于掩膜板的提拉部,以使掩膜板脱离基材。
作为优选方案,所述提拉部为提手,位于掩膜板背向承载座的一侧。
作为优选方案,所述提拉部有数个,沿掩膜板的周向均匀分布。
作为优选方案,所述承载座设有定位件,掩膜板具有与定位件定位配合的定位孔;或者,所述承载座具有定位孔,掩膜板具有与定位孔定位配合的定位件;
其中,定位孔和定位件与基材错位。
作为优选方案,所述掩膜板有多块,各掩膜板的定位孔或定位件的结构不同。
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