[实用新型]一种新型电解铜箔生箔装置

权利要求书

1.一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，

铜箔电沉积在金属环形运载带或其他适当挠性材料运载带的表面上；

所述运载带具有一穿过装置的路径，其中，所述装置包括多个连续设置的电解槽，所述路径包括所述运载带一侧连续横穿过所述多个电解槽并浸没在电解液中；

各个所述电解槽内对应设置可调节阳极板，且各个所述电解槽内的所述阳极板与所述运载带浸没在电解液中一侧间的极距不相等。

2.根据权利要求1所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，沿所述运载带浸没在电解液中一侧前进的方向，各个所述电解槽内的所述阳极板与所述运载带浸没在电解液中一侧间的极距依次减小。

3.根据权利要求2所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，所述电解槽与所述阳极板一一对应设置，同一电解槽内，所述运载带浸没在电解液中一侧与对应设置的所述阳极板极距处处相等。

4.根据权利要求3所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，铜箔通过第一手段电沉积在金属环形运载带或其他适当挠性材料运载带的一侧表面上；其中，所述第一手段包括利用绝缘层将所述运载带的另一侧表面及前后端面密封。

5.根据权利要求4所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，所述运载带浸没在电解液中一侧与所述阳极板为平板式平行布置。

6.根据权利要求5所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，各个所述电解槽内的所述阳极板与所述运载带浸没在电解液中一侧间的极距为6-55mm。

7.根据权利要求6所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，所述金属环形运载带由钛原料或表面镀贵金属的复合材料制成。

8.根据权利要求7所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，所述运载带浸没在电解液中一侧下方预设距离处各个电解槽的相对两侧的侧壁上分别设置电解液进液口及出液口，所述电解液进液口或出液口设有可调节流量大小的控制阀门，和/或所述电解液进液口或出液口的大小可调，所述预设距离为12-80mm。

9.根据权利要求8所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，所述运载带由传动件组循环传动，所述传动件组包括分别设置在两侧端部的所述电解槽内的下传动件组、分别设置在所述多个电解槽上方外部两侧的上传动件组，位于所述多个电解槽一侧的所述上传动件组包括上传动件和金属箔剥离件，所述运载带上侧一端的内侧面绕于所述上传动件上且其外侧面与所述金属箔剥离件表面抵压接触，所述上传动件和所述金属剥离件向相反方向转动，所述运载带沿所述下传动件组和上传动件组循环传动。

10.根据权利要求9所述的一种新型电解铜箔生箔装置，其特征在于，还包括钝化处理装置、收卷装置，所述钝化处理装置包括钝化处理槽、位于所述钝化处理槽槽口两侧的上传动件组、位于所述钝化处理槽内部可使金属箔充分浸没在钝化溶液中的下传动件组，所述金属箔由所述金属剥离辊剥离后，通过所述钝化处理装置后表面生成防氧化层，然后由所述收卷装置卷收。