[实用新型]一种煎烤机有效

专利信息
申请号: 202121789695.8 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN216020552U 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 朱泽春;汪东升;万军 申请(专利权)人: 九阳股份有限公司
主分类号: A47J37/01 分类号: A47J37/01;A47J37/06;A47J37/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250117 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 煎烤机
【说明书】:

实用新型涉及一种煎烤机。现有煎烤机的可烹饪食材量较少,影响使用体验。本实用新型包括底座、罩壳以及烤盘组件,烤盘组件包括下置烤盘和上置烤盘,上置烤盘盖合在下置烤盘上并围合形成下置烹饪腔,所述罩壳的顶面中部设有带盖体的开口,所述上置烤盘的顶面中部通过开口敞露并形成上置烹饪腔,所述上置烤盘上设有储水槽,储水槽内水源受热形成的蒸汽被输送至上置烹饪腔内。在上置烤盘上设置储水槽和上置烹饪腔,储水槽内水源形成的蒸汽直接输送至上置烹饪腔内,既通过增设上置烹饪腔来有效增加单次可烹饪食材的数量,提升使用体验,还利用储水槽内水源形成输入上置烹饪腔的蒸汽,通过调节上置烹饪腔内食材的含水量来提升烹饪口感。

技术领域

本实用新型涉及食品加工领域,具体涉及一种煎烤机。

背景技术

现有煎烤机包括底座、可盖合在底座上的罩壳以及设置在底座和罩壳间的烤盘组件,所述烤盘组件包括设置在底座顶面的下置烤盘以及设置在罩壳底面的上置烤盘,上置烤盘盖合在下置烤盘上并围合形成下置烹饪腔,在使用时,煎烤机只能通过下置烹饪腔进行烹饪煎烤,导致单次可烹饪的食材数量较少,影响烹饪效率,此外,煎烤会导致食材含水量降低,影响烹饪口感。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足,本实用新型提供一种煎烤机,通过在上置烤盘上方设置储水槽和上置烹饪腔,既能有效增加单次烹饪食材的数量,还能利用储水槽产生的蒸汽来提升食材的含水量,提升烹饪口感。

本实用新型通过以下方式实现:一种煎烤机,包括底座、可盖合在底座上的罩壳以及设置在底座和罩壳间的烤盘组件,所述烤盘组件包括设置在底座顶面的下置烤盘以及设置在罩壳底面的上置烤盘,上置烤盘盖合在下置烤盘上并围合形成下置烹饪腔,所述罩壳的顶面中部设有带盖体的开口,所述上置烤盘的顶面中部通过开口敞露并形成上置烹饪腔,所述上置烤盘上设有储水槽,储水槽内水源受热形成的蒸汽被输送至上置烹饪腔内。在上置烤盘上设置储水槽和上置烹饪腔,储水槽内水源形成的蒸汽直接输送至上置烹饪腔内,既通过增设上置烹饪腔来有效增加单次可烹饪食材的数量,提升使用体验,还利用储水槽内水源形成输入上置烹饪腔的蒸汽,通过调节上置烹饪腔内食材的含水量来提升烹饪口感。

作为优选,所述储水槽的顶部设有与上置烹饪腔通连的槽口,储水槽内产生的蒸汽通过槽口输入上置烹饪腔。储水槽内形成的蒸汽通过设于其顶部的槽口输入上置烹饪腔,既确保蒸汽有效输送,还能防止储水槽内的水源外泄至上置烹饪腔,防止食材因浸泡在水源内而影响烹饪口感。

作为优选,所述上置烹饪腔的底壁周缘通过向下凹陷形成所述储水槽。储水槽低于上置烹饪腔的底壁设置,既能通过收集上置烹饪腔内水源来提升水源利用效率,还能防止水源浸没食材。

作为优选,所述上置烹饪腔的底壁呈中部向下凹陷的锥形面,所述锥形面的径线与水平面间具有夹角A,A≥1.5°。通过设置锥形面起到向中部汇聚食材的作用,防止糊状食材进入储水槽。当A<1.5°时,锥形面周缘与中部间的高度差值较小,无法阻挡糊状食材流淌,导致食材进入储水槽而发生烤制焦糊的情况。

作为优选,所述上置烤盘的顶面通过向上延伸形成所述储水槽。储水槽高于上置烤盘的顶面设置,确保储水槽内水源与上置烹饪腔内食材分离,防止水源与食材相互接触。

作为优选,所述盖体的竖向投影完整覆盖所述开口,盖合到位后,所述储水槽和上置烹饪腔互为通连且与外界空间隔绝,所述盖体的底面周缘向下弯折形成密封边。盖体完整覆盖开口,使得储水槽和上置烹饪腔互为通连,方便蒸汽精确输送。密封边能与开口周缘抵触,通过增大接触面积来提升密封性能,防止蒸汽发生外泄的情况。

作为优选,所述储水槽的内侧壁上设有最大水位线,最大水位线与槽口间距离为B,B≥30mm,以限制水源沸腾后向外飞溅。通过设置最大水位线来防止水源因沸腾而发生向外飞溅的情况,既防止水源浸泡食材,确保烹饪口感,还有效控制罩壳高度,减小煎烤机体积。

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