[实用新型]化学气相沉积设备水平调节装置有效
申请号: | 202121829199.0 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN215906274U | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 孔凡涛;贾云霄;孙海兵 | 申请(专利权)人: | 无锡吉易特半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214194 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 沉积 设备 水平 调节 装置 | ||
1.化学气相沉积设备水平调节装置,其结构包括安装在主机架上的电机(11),电机(11)输出端通过联轴器(12)连接丝杆(3),丝杆(3)上设丝杆螺母(2),丝杆螺母(2)连接滑块(5),滑块(5)与主机架上的滑轨(4)滑动连接,滑块(5)尾部连接加热座(7),滑块(5)顶部通过支撑柱(6)连接加热盘支撑板(1),加热盘支撑板(1)通过两根对称设置且穿过加热盘支撑板(1)的螺纹杆(8)连接加热腔体底板(10);其特征是所述的螺纹杆(8)顶端与加热腔体底板(10)连接处以及加热盘支撑板(1)底面处分别设六角螺母(9),螺纹杆(8)上六角螺母(9)之间套设有弹簧(13),加热腔体底板(10)向下设有一对刻度棒(14),刻度棒(14)位置对应螺纹杆(8)位置,加热盘支撑板(1)端面上配合两根刻度棒(14)设有辅助线(15)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的