[实用新型]化学气相沉积设备水平调节装置有效

专利信息
申请号: 202121829199.0 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN215906274U 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 孔凡涛;贾云霄;孙海兵 申请(专利权)人: 无锡吉易特半导体科技有限公司
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214194 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 设备 水平 调节 装置
【权利要求书】:

1.化学气相沉积设备水平调节装置,其结构包括安装在主机架上的电机(11),电机(11)输出端通过联轴器(12)连接丝杆(3),丝杆(3)上设丝杆螺母(2),丝杆螺母(2)连接滑块(5),滑块(5)与主机架上的滑轨(4)滑动连接,滑块(5)尾部连接加热座(7),滑块(5)顶部通过支撑柱(6)连接加热盘支撑板(1),加热盘支撑板(1)通过两根对称设置且穿过加热盘支撑板(1)的螺纹杆(8)连接加热腔体底板(10);其特征是所述的螺纹杆(8)顶端与加热腔体底板(10)连接处以及加热盘支撑板(1)底面处分别设六角螺母(9),螺纹杆(8)上六角螺母(9)之间套设有弹簧(13),加热腔体底板(10)向下设有一对刻度棒(14),刻度棒(14)位置对应螺纹杆(8)位置,加热盘支撑板(1)端面上配合两根刻度棒(14)设有辅助线(15)。

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