[实用新型]化学气相沉积设备水平调节装置有效
申请号: | 202121829199.0 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN215906274U | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 孔凡涛;贾云霄;孙海兵 | 申请(专利权)人: | 无锡吉易特半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
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地址: | 214194 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 沉积 设备 水平 调节 装置 | ||
本实用新型是化学气相沉积设备水平调节装置,其结构是螺纹杆顶端与加热腔体底板连接处以及加热盘支撑板底面处分别设六角螺母,螺纹杆上六角螺母之间套设有弹簧,加热腔体底板向下设有一对刻度棒,刻度棒位置对应螺纹杆位置,加热盘支撑板端面上配合两根刻度棒设有辅助线。本实用新型的优点:结构设计简单合理、投入成本低,不仅可满足精密调节,也可保证调节幅度的易掌握性,可同时实现快速调节和精度调节两种调节方式;刻度棒的设置可实现直观显示调节量;改变了现有技术双螺母锁定机构,采用了适合设备机械强度的弹簧螺母锁定组合;简化了调节方式,并能对调节进行量化跟踪,有效减少了人工重复性调节对机构本身造成的损坏。
技术领域
本实用新型涉及的是化学气相沉积设备水平调节装置。
背景技术
化学气相沉积设备是晶圆生产的重要设备之一,用于在晶圆表面进行化学反应生成薄膜,提高晶圆表面均匀度。化学气相沉积设备在使用时,需要经常调节加热盘的水平。
现有技术化学气相沉积设备的水平调节装置(图1、2),在多次调节加热盘的水平的使用过程中,不仅调节较为繁琐、无法直观对调节的参数进行量化,容易产生人为重复性调节,导致在螺母磨损变形到不易调节时,必须进行更换,而更换的过程中(包括真空与大气压状态的转换、水平盘的位置变化等)会造成产品的精度发生改变,需要重新进行调节,耗费大量人力和物力成本,影响经济效益。现有技术也有结构复杂、带有电子显示装置的水平调节装置,然而其投入成本较高。
实用新型内容
本实用新型提出的是化学气相沉积设备水平调节装置,其目的旨在克服现有技术存在的上述缺陷,简化调节方式,并可量化跟踪调节过程,减少对调节机构的损坏,并保证低投入。
本实用新型的技术解决方案:化学气相沉积设备水平调节装置,其结构包括安装在主机架上的电机,电机输出端通过联轴器连接丝杆,丝杆上设丝杆螺母,丝杆螺母连接滑块,滑块与主机架上的滑轨滑动连接,滑块尾部连接加热座,滑块顶部通过支撑柱连接加热盘支撑板,加热盘支撑板通过两根对称设置且穿过加热盘支撑板的螺纹杆连接加热腔体底板;所述的螺纹杆顶端与加热腔体底板连接处以及加热盘支撑板底面处分别设六角螺母,螺纹杆上六角螺母之间套设有弹簧,加热腔体底板向下设有一对刻度棒,刻度棒位置对应螺纹杆位置,加热盘支撑板端面上配合两根刻度棒设有辅助线。
本实用新型的优点:结构设计简单合理、投入成本低,不仅可满足精密调节,也可保证调节幅度的易掌握性,可同时实现快速调节和精度调节两种调节方式;刻度棒的设置可实现直观显示调节量;改变了现有技术双螺母锁定机构,采用了适合设备机械强度的弹簧螺母锁定组合;简化了调节方式,并能对调节进行量化跟踪,有效减少了人工重复性调节对机构本身造成的损坏。
附图说明
图1是现有技术化学气相沉积设备水平调节装置的结构示意图。
图2是图1的侧视图。
图3是本实用新型化学气相沉积设备水平调节装置的结构示意图。
图4是图3的侧视图。
图中的1是加热盘支撑板、2是丝杆螺母、3是丝杆、4是滑轨、5 是滑块、6是支撑柱、7是加热座、8是螺纹杆、9是六角螺母、10是加热腔体底板、11是电机、12是联轴器、13是弹簧、14是刻度棒、15是辅助线。
具体实施方式
下面结合实施例和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的