[实用新型]一种硅片加工用匀胶装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片加工用匀胶装置，涉及硅片加工技术领域，包括均胶装置本体、加工台和胶箱，所述均胶装置本体的顶部固定连接有加工台，所述加工台的顶部的一侧固定连接有胶箱，所述胶箱的内腔设置有搅拌机构。本实用新型通过加热器、导热管和水泵的配合，对水箱内腔的清水进行加热，并通过导热管将热量散发在加热板的内腔，同时通过固定杆、直杆和一号电机的配合，带动加热板对胶水进行搅拌，同时均匀的对胶水进行加热，避免了现有的均胶装置在长时间使用时，胶箱内腔的胶水容易凝结，需要工人手动使用工具进行搅拌，使得浪费工人的时间，导致装置实用性较差的问题，使得便于对胶水进行搅拌并加热，节约工人的时间，提高装置的实用性。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体涉及一种硅片加工用匀胶装置。

背景技术

硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。在制造硅片时，需要使用均胶装置对硅片进行上胶。针对现有技术存在以下问题：

1、现有的均胶装置在长时间使用时，胶箱内腔的胶水容易凝结，需要工人手动使用工具进行搅拌，以保证胶水不会凝结，使得浪费工人大量的时间，导致装置实用性较差的问题；

2、现有的均胶装置在使用时，对硅片上胶的不够均匀，影响硅片的质量，导致降低装置工作效率的问题。

实用新型内容

本实用新型提供一种硅片加工用匀胶装置，其中一种目的是为了具备便于对胶水进行搅拌，防止胶水凝固的特点，解决现有的均胶装置在长时间使用时，胶箱内腔的胶水容易凝结，需要工人手动使用工具进行搅拌，以保证胶水不会凝结，使得浪费工人大量的时间，导致装置实用性较差的问题；其中另一种目的是为了解决现有的均胶装置在使用时，对硅片上胶的不够均匀，影响硅片的质量，导致降低装置工作效率的问题，以达到均匀的对硅片进行上胶，提高装置的工作效率。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

一种硅片加工用匀胶装置，包括均胶装置本体、加工台和胶箱，所述均胶装置本体的顶部固定连接有加工台，所述加工台的顶部的一侧固定连接有胶箱，所述胶箱的内腔设置有搅拌机构，所述加工台的顶部设置有吸附机构。

所述搅拌机构包括有加热板，所述加热板的一侧固定连接有固定杆。

所述吸附机构包括有加工板，所述加工板的顶部开设有吸附孔。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述胶箱内腔底部的两侧固定连接有一号电机，所述一号电机的输出端固定连接有直杆，所述直杆的两侧固定连接在固定杆的一端。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述加热板内腔的底部固定套接有水箱，所述水箱内腔的底部固定连接有加热器，所述水箱的内腔填充有清水，所述水箱的内腔固定套接有导热管，所述导热管的外壁延伸至加热板的内腔，所述导热管的外壁固定连接有水泵，所述导热管的一端固定连接在水箱顶部的一侧。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述加工台的顶部开设有喷胶槽，所述喷胶槽内腔的底部固定连接有二号电机，所述二号电机的输出端固定连接在加工板的底部，所述加工板的外壁活动套接在喷胶槽的内腔。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述加工板内腔的底部固定连接有真空泵，所述真空泵的顶部固定连接有吸罩，所述吸罩的顶部固定连接在加工板内腔的顶部，所述加工板的顶部位于吸附孔的下方。

本实用新型技术方案的进一步改进在于：所述吸罩的内腔固定套接有过滤网，所述过滤网的顶部固定连接有过滤棉。