[实用新型]一种薄膜厚度测试治具有效
| 申请号： | 202121945713.7 | 申请日： | 2021-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN215491449U | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王丽娜;孙丽君;林烜;贺阳;蒋永伟;杨晨 | 申请（专利权）人： | 航天氢能（上海）科技有限公司;上海空间电源研究所 |
| 主分类号： | G01B5/06 | 分类号： | G01B5/06 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 贾慧琴;包姝晴 |
| 地址： | 201108 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 厚度 测试 | ||
1.一种薄膜厚度测试治具，其特征在于，所述的薄膜厚度测试治具包含：
下托片，用于承载薄膜；
上托片，用于覆盖在薄膜上方，设有若干条第一刻度线，所述的第一刻度线将上托片分为若干区域；下托片与上托片均透明或半透明；
固定装置，用于固定测试状态下所述上托片和所述下托片的相对位置，使上、下托片不发生相对滑动。
2.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的下托片设有第二刻度线，测试厚度时，所述第二刻度线的位置与所述第一刻度线的投影位置重合。
3.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的若干条第一刻度线分别沿上托片的长度方向和宽度方向设置，构成若干行列。
4.如权利要求3所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的刻度线中的首行和首列上均设有刻度值。
5.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的上托片和下托片的厚度均为1μm～10mm。
6.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的上托片和下托片其自身各区域的厚度差在10μm以内。
7.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的固定装置选取磁铁、胶带、夹子中的任意一种或多种，在上、下托片边缘位置定位。
8.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的固定装置包含工艺孔。
9.如权利要求1所述的薄膜厚度测试治具，其特征在于：所述的上托片和下托片的长度和宽度尺寸完全相同，分别大于所测量的薄膜的长度和宽度尺寸。
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