[实用新型]蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 202122005303.0 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN216107165U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 赵利;刘芳军;孙军旗;孙玉群;鲁艳春 申请(专利权)人: 北海惠科半导体科技有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 邢涛
地址: 536000 广西壮族自治区北海市工业园区北*** 国省代码: 广西;45
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摘要:
搜索关键词: 设备
【权利要求书】:

1.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:

蒸镀腔体;

蒸镀源,设置在所述蒸镀腔体的底部,用于将蒸镀材料转化成气体分子蒸镀材料;

至少两个蒸镀锅,至少两个所述蒸镀锅设置在所述蒸镀源的上方;以及

分流板,以所述蒸镀源的顶面为基准面,所述分流板设置的高度,低于至少两个所述蒸镀锅的最高点的高度,高于所述基准面;

其中,所述蒸镀腔体中能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为有效蒸镀区域,不能被至少两个所述蒸镀锅覆盖的区域为无效蒸镀区域;

所述分流板对应所述无效蒸镀区域设置,所述分流板将所述无效蒸镀区域的气体分子蒸镀材料分流至所述有效蒸镀区域。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀源的中心和所述分流板的中心在同一竖直线上;

所述蒸镀锅的数量为三个,三个所述蒸镀锅围绕所述竖直线呈圆周均匀分布;

其中,三个所述蒸镀锅围绕所述竖直线进行公转。

3.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀锅倾斜设置,所述蒸镀锅的蒸镀面朝向所述蒸镀源。

4.根据权利要求2所述的蒸镀设备,其特征在于,设所述分流板的设置高度为h;

所述分流板的宽度为d;

其中,d=K*h;所述K为固定值。

5.根据权利要求2所述的蒸镀设备,其特征在于,设所述分流板的设置高度为h;

所述蒸镀锅的最高点的高度为H;

其中,所述h=H*X;所述X=50-70%。

6.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述分流板的导流面为凸面,所述凸面朝向所述蒸镀源;

其中,所述凸面为弧形或锥形。

7.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,

所述分流板的导流面为平面,所述平面与水平面具有预设角度,所述预设角度的范围为0至30度。

8.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述分流板开设有多个通孔;多个所述通孔在所述分流板上设置的密度自中心向外依次变大;

其中,所述通孔的形状包括圆形、角形、条形至少之一。

9.根据权利要求1-8任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备还包括:

固定座,设置在所述蒸镀腔体的内侧壁上;以及

连接件,用于连接所述分流板和所述固定座。

10.根据权利要求1-8任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备包括杆件,所述杆件与所述分流板连接,所述杆件用于调节所述分流板设置的高度。

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