[实用新型]蒸镀装置以及蒸镀设备

说明书

本申请实施例公开了一种蒸镀装置和蒸镀设备。其中，蒸镀装置用于对晶圆进行蒸镀，蒸镀装置包括：蒸镀腔体、蒸镀源、行星锅和中心锅。蒸镀源设置在所述蒸镀腔体的底部；行星锅，用于放置第一晶圆，所述行星锅设置有多个，多个所述行星锅设置在所述蒸镀源的上方；其中，多个所述行星锅绕一竖直线公转，所述竖直线穿过所述蒸镀源；中心锅，用于放置第二晶圆，所述中心锅设置在所述蒸镀源的上方，所述竖直线穿过所述中心锅。本申请实施例提供的蒸镀装置，通过在蒸镀腔体上部设置中心锅，能够有效提高蒸镀材料的利用率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置以及蒸镀设备。

背景技术

蒸镀，属于一种物理沉积，是通过某种方式将蒸镀材料转化成气体分子蒸镀材料，气体分子蒸镀材料在真空环境中运动附着在待蒸镀物表面，从而在待蒸镀物表面形成薄膜的过程。

蒸镀设备的行星锅用于放置和固定待蒸镀物，待蒸镀物比如晶圆。蒸镀设备在加工待蒸镀物时，从蒸镀源出来的气体分子蒸镀材料，具有中间浓度大而集中，周围相对浓度小而分散的特点。现有的蒸镀设备的行星锅只能沉积部分气体分子蒸镀材料，对蒸镀材料的利用率不高。

实用新型内容

本申请实施例的目的是提供一种蒸镀装置以及蒸镀设备，能够有效提高蒸镀材料的利用率。

第一方面，本申请实施例提供了一种蒸镀装置，用于对晶圆进行蒸镀，蒸镀装置包括：蒸镀腔体、蒸镀源、行星锅和中心锅。蒸镀源设置在所述蒸镀腔体的底部；行星锅，用于放置第一晶圆，所述行星锅设置有多个，多个所述行星锅设置在所述蒸镀源的上方；其中，多个所述行星锅绕一竖直线公转，所述竖直线穿过所述蒸镀源；中心锅，用于放置第二晶圆，所述中心锅设置在所述蒸镀源的上方，所述竖直线穿过所述中心锅。

可选的，所述中心锅绕所述竖直线自转。

可选的，所述蒸镀装置包括驱动装置，所述驱动装置包括：驱动主轴、驱动支架和发动机。驱动主轴，所述驱动主轴连接于所述中心锅的非蒸镀面，用于驱动所述中心锅自转；驱动支架，所述驱动支架为多个；其中，多个所述驱动支架的一端分别连接于所述驱动主轴；多个所述驱动支架的另一端连接多个所述行星锅，所述驱动支架用于驱动所述行星锅公转；以及发动机，所述发动机设置在所述蒸镀腔体的外部，所述发动机用于提供机械能给所述驱动主轴和所述驱动支架。

可选的，所述中心锅的自转方向和所述行星锅的公转方向相反。

可选的，所述蒸镀装置还包括连接杆，所述连接杆用于调节所述中心锅的高度，所述连接杆连接所述中心锅和所述蒸镀腔体。

可选的，以所述蒸镀源所在水平面为基准面，所述中心锅与所述基准面的距离大于所述行星锅最高点与所述基准面的距离；所述中心锅的半径大于所述行星锅与所述竖直线的最小距离。

可选的，所述行星锅倾斜设置，所述行星锅的蒸镀面朝向所述蒸镀源。

可选的，所述竖直线穿过所述中心锅的中心以及所述蒸镀源的中心。

可选的，所述中心锅的蒸镀面为平面或凹面。

第二方面，本申请实施例还提供一种蒸镀设备，包括前述的蒸镀装置。

本申请实施例提供的蒸镀装置和蒸镀设备，针对示例性的蒸镀装置的行星锅公转也不能覆盖所有蒸镀区域而造成蒸镀区域浪费的问题，提出在蒸镀腔体的上部设置中心锅，由于中心锅也能够蒸镀晶圆，中心锅设置在行星锅覆盖不到的区域，将蒸镀不到行星锅上的蒸镀区域充分利用起来，所以设置中心锅能够减少蒸镀区域的浪费；将原本行星锅覆盖不到的区域对应的浪费的气体分子蒸镀材料利用起来，能够有效提高蒸镀材料的利用率；而且中心锅的设置还能增加晶圆的蒸镀产量，提高了产能，提升了生产效率。

附图说明